ASML荷兰有限公司专利技术

ASML荷兰有限公司共有3480项专利

  • 一种带电粒子探测器,包括:感测元件阵列,被配置为响应于带电粒子而生成电信号并且按行排列;光学调制器阵列,各自被连接至感测元件中的相应感测元件并且被配置为响应于电信号而对感测光束进行调制;多个波导,被配置为引导多个感测光束中的每个感测光束...
  • 公开了一种用于监测光刻系统的一个或更多个部件适当起作用的方法。所述方法包括:在使用所述光刻系统的生产活动期间的控制要求相对不严格的时间,确定所述一个或更多个部件中的每个部件在所述生产活动期间的频率响应函数;相对于指示名义光刻系统行为的控...
  • 公开了一种傅里叶变换光谱仪,包括:分束布置,该分束布置能够操作为从公共辐射源限定第一辐射源和第二辐射源,以及至少一个检测器,该检测器能够操作为检测作为至少在检测平面的第一检测平面方向上的检测位置的函数的干涉图数据,该干涉图数据由从第一辐...
  • 一种用于从一表面去除粒子的系统,包括:多个超声换能器,所述多个超声换能器被布置成阵列;控制系统,所述控制系统与所述多个超声换能器通信,所述控制系统被配置成控制所述阵列中的换能器的相位和振幅,以在所述表面上的选定位置处产生声学粒子陷阱,并...
  • 本发明提供了一种处理从样品得到的数据的方法,包括处理由检测器的检测得到的元素的初始数据集以进行校准,该数据集包括表示干扰信号和检测信号的元素。初始数据集的处理包括:将分布模型拟合到初始数据集以创建干扰分布模型;设置信号强度值,并选择初始...
  • 公开了一种表膜隔膜,所述表膜隔膜包括三个或更多个层,所述三个或更多个层包括至少一个内部层和在所述至少一个内部层的任一侧上的至少一个外部层,其中,所述至少一个内部层包括硼、锆、铍、铌、钇、钼和/或碳和/或这些材料中的每种材料的一种或更多种...
  • 一种组件,包括:窗口,所述窗口用于对极紫外(EUV)光源容器的内部进行光学访问,所述窗口具有透射带;和保护器,所述保护器被配置成将所述窗口与所述EUV光源容器的内部屏蔽隔离,所述保护器包括具有横跨一间隙的面向所述窗口的表面的片材,所述片...
  • 一种用于支撑衬底的衬底保持系统,该衬底保持系统包括衬底保持器和排空导管,其中:衬底保持器包括:主体,该主体具有表面;多个突节,从表面突出并具有形成用于衬底的支撑表面的远端;以及提取通道,该提取通道与排空导管以及表面与由突节支撑的衬底之间...
  • 公开了一种方法,包括:获得与测量设备的至少一个测量结果相关的测量数据,所述测量设备被配置为将辐射辐照到衬底上的一个或多个结构中的每个结构上;使用分解方法分解所述测量数据以获得多个测量数据分量;基于所述一个或多个结构来获得与至少一个模拟相...
  • 本文公开了一种用于光刻装置的流体处理系统,其中该流体处理系统被配置为将浸没流体限制在该光刻装置中的投射系统的一部分与衬底的表面之间的液体限制空间中,借此从该投射系统投射的辐射束能够通过穿过该浸没流体照射该衬底的该表面,该流体处理系统包括...
  • 公开了一种改进的方法和系统,用于使用检查图像进行瞬态缺陷检查。该方法包括:获取多个检查图像,生成该多个检查图像的平均图像,检测该平均图像中的第一类型缺陷,确定与该第一类型缺陷相对应的掩模区,以及确定该多个检查图像在非掩模区中是否具有第二...
  • 公开了一种衬底,包括至少一个目标。该目标包括多个子目标,该多个子目标至少包括第一子目标和第二子目标,该多个子目标中的每一者包括具有重复的第一区域和第二区域的至少一个子分段周期性结构,其中第一区域或第二区域中的至少一者包括由周期性子特征形...
  • 一种带电粒子评估装置,用于通过在样品上扫描带电粒子束来检测样品中的缺陷;该装置包括:检测器单元,被配置为响应于从样品入射的信号粒子来输出像素值的数字检测信号,像素值表示细长像素。
  • 一种确定光刻装置中的光学传感器的污染的方法,该方法包括:使用EUV辐射来照射图案形成装置上的图案;将经图案化的反射EUV辐射朝向光学传感器投射,从而形成图案的空间图像;以及相对于经图案化的反射EUV辐射移动光学传感器,使得由光学传感器测...
  • 本文中描述的是一种用于预测在使用光刻设备将目标布局转移到衬底上时的蚀刻后随机变化的方法。所述方法包括:通过预测随机蚀刻偏差来预测将目标布局转移到衬底上时的随机变化;和将所述随机蚀刻偏差与光刻过程后随机变化组合以预测蚀刻过程中的所述随机变...
  • 本发明提供一种柔性供应结构,用于将第一可移动物体与第二物体连接,其中柔性供应结构包括具有第一磁场取向的第一永磁体,其中柔性供应结构被布置为至少部分地由支撑件支撑,该支撑件包括具有第二磁场取向的第二磁体,使得当第一永磁体和第二磁体彼此面对...
  • 披露了一种用于EUV辐射源中的激光束的量测和控制系统(100,400,500)。所述系统包括光学拾取件(405,540,550),所述光学拾取件被配置成测量被引导朝向目标部位(420,535)的前向束(410,510,520,530)和...
  • 本文中公开了一种系统,该系统包括:带电粒子束检查设备,所述带电粒子束检查设备被配置为扫描包括具有多个图案层的目标的样本;以及控制器,所述控制器包括电路系统,该控制器被配置为:响应于目标的扫描而获得检测数据;以及根据所获得的检测数据和模型...
  • 空间对准图案形成装置和衬底的方法,其中图案形成装置和衬底由包括一个或多个可移动光学部件的光路隔开,该方法包括:‑沿光路投影来自图案形成装置的辐射束;‑执行一个或多个可移动光学部件沿预定轨迹的移位;‑在一个或多个可移动光学部件的移位期间,...
  • 披露了一种用于确定光刻系统上的失效事件的方法。所述方法包括:将在所述光刻系统内产生的至少一个信号分解成多个分量信号,每个分量信号与不同的相应的频率范围相关;相对于名义光刻系统行为评估所述分量信号中的至少一个分量信号;以及将所述分量信号中...