本文中披露了一种在表面（401）上形成2D材料的图案的方法，所述方法包括：在表面上沉积前体材料（402a），其中所述前体材料包括用于在所述表面上形成2D材料的一种或更多种组分、以及用于响应于由辐射进行的照射而形成交联键的一种或更多种组分...

衬底保持系统包括被配置为支撑衬底的衬底支撑件、气源和多个导管。衬底支撑件包括第一端口和多个第二端口，这些第二端口在第一端口的径向外侧。第一端口和多个第二端口被配置为与气源流体连通。气源被配置为通过第一端口和多个第二端口将惰性气体供应到衬...

公开了使用带电粒子束装置对样品成像的系统和方法。该装置可以包括：带电粒子源，被配置为发射带电粒子，所发射的带电粒子沿着初级光轴形成初级带电粒子束；物镜，包括磁性透镜；带电粒子检测器，相对于初级带电粒子束的路径位于物镜的下游，并且沿着基本...

一种带电粒子检测器包括多个感测元件，其中每个感测元件进一步被划分为子感测元件。所述子感测元件可以在图像模式中在高分辨率图像获取期间被单独地寻址，并且可以在束模式中在高速检测期间被分组在一起。这种布置允许速度与分辨率之间的可选折衷，而不引...

描述了一种随机感知源掩模优化的方法。确定考虑了随机性的边缘放置的概率分布。基于该概率分布，可以针对光刻过程优化源配置、掩模配置、或源配置和掩模配置的组合。边缘放置的概率分布可以考虑随机效应在边缘放置上的分布，包括随机边缘放置误差贡献。可...

本文描述了用于基于掩模特征的局部特征尺寸(LFD)确定与掩模特征相关联的掩模规则检查(MRC)违反的方法和系统。检测器被放置在掩模特征的第一位置处，并且其大小被改变，直到其与所述掩模特征的第二位置接触。当其与第二位置接触时检测器的大小被...

公开了包括改进的源转换单元的多束检查装置。改进的源转换单元可以包括微结构偏转器阵列，微结构偏转器阵列包括多个多极结构。微偏转器的偏转器阵列可以包括具有距阵列中心轴线第一径向偏移的第一多极结构以及具有距阵列中心轴线第二径向偏移的第二多极结...

优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制...

一种用于沿着相应的束路径朝向样品位置投射多个带电粒子束的带电粒子光学设备，该带电粒子光学设备包括：带电粒子光学组件，被配置为操纵该带电粒子束，该带电粒子光学组件包括第一带电粒子光学元件，该第一带电粒子光学元件包括具有围绕该带电粒子束的束...

一种用于调整图像中的失真的系统、装置和方法。各实施例包括：获得多个图像；确定多个图像上的多个特征和与多个图像相对应的布局数据中的对应特征之间的对准差异；对该对准差异进行建模；以及使用建模来调整以下各项中的至少一项：与获得多个图像相对应的...

一个实施例涉及一种对经受由设备执行的过程的产品单元进行分类的方法，所述方法包括：接收KPI数据，所述KPI数据与所述设备的多个部件相关联且包括与多个KPI相关联的数据；对所述KPI数据聚类成簇以识别多个簇；分析所述多个簇以识别与所述设备...

用于减少检查图像中的充电伪影的系统和方法包括获取检查图像集，其中该检查图像集中的每个检查图像都包括充电伪影；以及使用该检查图像集作为输入来训练机器学习模型，其中机器学习模型输出该检查图像集的解耦特征集。

一种包括电解装置的系统包括：阳极，所述阳极被配置为用于连接到电压源的第一极；阴极，所述阴极被配置为用于连接到所述电压源的第二极；流体入口，所述流体入口被配置为允许流体流进入所述电解装置；和流体出口，所述流体出口被配置为允许所述流离开所述...

公开了用于优化量测标记的系统、方法以及计算机软件。一种方法，包括基于图案密度、微负载影响引起的标记内变化、或标记内变化对蚀刻化学物的敏感性中的一项或多项来模拟蚀刻过程。该方法可以基于对蚀刻过程的模拟来预测蚀刻引起的过程对量测标记的影响，...

公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多...

一种光刻设备包括：限定光路的多个光学元件；第一主体；第二主体；以及电压源。光刻设备可以是极紫外(EUV)光刻设备。限定光路的多个光学元件被布置为接收辐射束，将辐射束投影到掩模版上，以便对辐射束进行图案化并在衬底上形成掩模版的图像。第一主...

一种检查系统，该检查系统包括辐射源、第一光学结构和第二光学结构、以及检测系统。辐射源产生辐射束。由束形成的图像包括与束相对应的辐射斑点。辐射斑点的直径小于目标的尺寸，并且辐射斑点是不重叠的。第一光学结构使束沿朝向目标的路线行进，以便将辐...

一种检查系统，包括辐射源、集成光学系统以及第一和第二检测器。辐射源产生辐射以辐照目标。集成光学系统包括：衬底；第一、第二、第三和第四波导；第一和第二光栅耦合器；耦接到第一和第二波导的第一组合器；以及耦接到第三和第四波导的第二组合器。所述...

本发明提供了一种用于带电粒子光学设备和/或带电粒子评估装置的传感器衬底，该传感器衬底包括：至少一个距离传感器，其被配置为产生表示距离传感器与目标的面对表面之间的距离的测量信号；以及至少一个带电粒子光学部件。

公开了一种量测设备，其中，已与标记相互作用的测量辐射中的一些被拆分成通道或臂，并且随后每个通道或臂在空间上分离。在一些版本中，对准信息包括偏振通道强度信息。在其它版本中，所述对准信息包括颜色通道强度信息。