公开了一种确定正交归一化的感兴趣结构参考图像的方法，所述正交归一化的感兴趣结构参考图像用于应用于所述感兴趣结构的测量图像以校正来自至少一个损扰结构的串扰的所述影响。所述方法包括基于所述感兴趣结构的知识来确定感兴趣结构参考图像；基于所述至...

提供了一种流体配发系统，该流体配发系统包括：具有预定义渗透性以允许流体的渗透的流体可渗透表面；以及控制器，其被配置为通过控制流体的压力和流体可渗透表面的暴露表面积中的一者或两者来控制流体渗透进入体积的速率。还提供了一种控制流体的配发的方...

提供了一种用于激光产生等离子体辐射源的液滴产生器的喷嘴。所述喷嘴包括：玻璃毛细管，所述玻璃毛细管用于发射液滴；以及喷嘴接头，所述喷嘴接头包括通孔，其中，所述玻璃毛细管至少部分地被设置于所述通孔中。所述喷嘴还包括玻璃套圈，所述玻璃套圈将所...

公开了用于获得关于样品表面的形貌信息的设备和方法。在一种布置中，感测系统包括用于测量样品表面的相应部分的位置的一组近端传感器、以及比近端传感器更远离多束的子束路径定位的远端传感器。远端传感器测量样品表面的一部分相对于远端传感器的位置。控...

通过将少量的第一气体引入到包含光学元件的真空腔室中来减少在用于产生EUV辐射的系统中的一个或更多个反射型光学元件的反射率的劣化，其中第一气体与诸如CDA或XCDA之类的初始气体分离。可以将第一气体添加到诸如氢气之类的另一气体流中。

一种用于对准和放置电气部件的装置，包括：第一平台，该第一平台支撑至少一个第一电气部件，每个第一电气部件在与第一平台相对的一侧上具有多个导电表面；第二平台，该第二平台支撑至少一个第二电气部件，每个第二电气部件在与第二平台相对的一侧上具有多...

描述了一种通过使用玻璃板来产生离轴照射束的对准系统的新方法。将一对玻璃板插入到对准系统以产生一对离轴照射束。离轴照射束穿过孔径光阑。具有多个全反射镜的透射光学器件将射束朝向物镜反射。此后，物镜将射束聚焦到衬底上的对准标记上。然后，检测并...

公开了在带电粒子束装置中使用带电粒子检测器进行带电粒子检测的系统和方法。该装置可以包括带电粒子检测器，该带电粒子检测器包括衬底。衬底可以包括多个感测元件，该多个感测元件被配置为接收从样品生成的多个带电粒子。该多个感测元件中的每个感测元件...

披露了一种量测方法。所述方法包括获得关于使用两个或更多个不同的照射轮廓对至少一个目标进行的测量的测量数据；和根据所述测量数据确定所述两个或更多个不同的照射轮廓中的每个照射轮廓的所关注的参数的相应的所关注的参数值。所描述的所述方法：根据所...

披露了用于相对于待测量的经图案化的衬底上的图案来对检查设备的视场配置进行配置的方法。所述方法包括：获得包括跨越所述图案的至少一部分的至少一个参数分布的量测数据，所述至少一个参数分布与相应的所关注的一个或更多个参数和/或用于所关注的参数的...

一种用于校准光刻设备中的衬底的高度测量光学传感器的方法。所述方法包括使用所述高度测量光学传感器确定所述衬底的表面在关注的区内的第一高度。所述方法还包括使用扫描探针显微镜确定所述衬底的所述表面在所述关注的区内的第二高度。所述方法还包括通过...

一种训练生成器模型的方法，包括：使用生成器模型基于第一测量数据生成预测数据，其中第一测量数据和预测数据可用于形成样品的图像；将第一测量数据的子集与预测数据的子集配对，该子集对应于可由第一测量数据和预测数据形成的样品图像内的位置；使用鉴别...

公开了使用带电粒子束装置检测样品中的缺陷的系统和方法。该装置可以包括被配置为发射带电粒子的带电粒子源和包括电路系统的控制器，该电路系统被配置为：使用初级带电粒子束的第一剂量的带电粒子照射样品的包括多个特征的区域；使用初级带电粒子束的第二...

一种确定光刻设备中的感测系统的光学传感器的污染的方法，该方法包括：将EUV辐射引导穿过掩模版掩蔽叶片（26）中的开口并到达图案形成装置上；将经反射的EUV辐射投影到感测系统上，从而引起污染物区域的积聚；测量污染物区域的高度以及感测系统中...

描述了一种确定掩模设计的方法。该方法包括在至少一部分潜在空间中生成目标设计的概率分布的连续多模态表示。潜在空间包括可用于基于目标设计生成掩模设计的特征变量的分布。该方法包括从潜在空间中的连续多模态表示中选择变量。变量包括用于确定掩模设计...

描述了一种使用干涉仪系统确定第一可移动物体的绝对位置的方法，所述方法包括：从第一光源提供具有第一光频率的第一束和第二束；从第二光源提供具有第二（可调谐）光频率的另外的第一束和另外的第二束；将所述第一束和另外的第一束沿第一轴引导至所述第一...

一种微机电系统（MEMS）装置，被配置为相对于第二部分致动第一部分，该MEMS装置包括：第一电极和第二电极，该第一电极和所述第二电极被配置为使得在使用中，向第一电极和所述第二电极施加电压将相对于第二部分来对第一部分施加力；以及第一挡板，...

公开了具有第一反射镜、第二反射镜的反射镜组、和可移动台，所述反射镜组被安装至所述可移动台以使所述第一反射镜和所述第二反射镜与所述可移动台一起移动。所述第一反射镜被配置为接收与所述反射镜组的轴线成第一角度的束，并且所述第二反射镜被配置为提...

本文中披露了一种用于在表面处理过程中使用的屏蔽系统，包括第一圆盘和第二圆盘。所述第一圆盘和所述第二圆盘被布置成基本上彼此平行。所述第一圆盘包括狭缝形开口，所述第二圆盘包括多个开口；并且所述第一圆盘和所述第二圆盘被布置成围绕公共轴线相对于...

描述了一种用于光学元件的定位系统，所述光学元件例如是量测设备(例如，在半导体制造过程中使用的重叠测量设备)的物镜。定位系统包括载物台和定位装置。定位装置包括与所述载物台联接的至少一个柔性支撑件，该至少一个柔性支撑件被配置成在定位装置的轴...