一种训练推理模型的方法，用于根据产品的测量结果确定制造工艺的产品的一个或多个参数。该方法包括获取制造工艺的一个或多个产品的测量数据集，每个测量结果包括通过测量对应的一个产品而获得的值数组。该方法还包括选择数据集的适当子集用于训练推理模型...

公开了一种用于检查图像的图像对准的改进方法和系统。该改进方法和系统包括基于在感兴趣区域处将密度函数应用于样品图像和参考图像两者的对准不良率。诸如样品和参考图像的交叉相关之类的一个或多个度量可以被用于从密度函数图像导出基于区域密度的对准不...

一种用于支撑表膜的表膜框架（17），所述框架（17）包括第一表面（17B）和与所述第一表面（17A）相对的第二表面（17A），以及设置在所述第一表面（17A）与所述第二表面（17B）之间的结构（18）；其中所述第一表面（17A）和所述第...

一种确定结构的感兴趣参数的方法，所述结构包括沿结构坐标系的第一轴线定向的至少一个第一特征和沿所述结构坐标系的第二轴线定向的至少一个第二特征。所述方法包括：从相对于所述第一轴线和第二轴线倾斜的第一方向用第一照射来照射所述第一特征和所述第二...

系统、装置和方法包括：检测器，该检测器包括多个检测元件、多个电流源和模数转换器(ADC)，该多个检测元件被配置为响应于粒子入射到多个检测元件中的检测元件上而生成电信号，该多个电流源被配置为响应于电信号而驱动电流，多个电流源的输出被连接以...

公开了一种用于控制光刻设备的方法，该光刻设备被配置为在至少包括子场的衬底上图案化曝光场，该方法包括：获取初始空间分布，初始空间分布与性能参数的空间变化相关联，性能参数的空间变化在衬底上至少跨曝光场的子场的第一层相关联；以及将初始空间分布...

一种用于检查衬底(200)上的导电图案(202)的设备(201)，包括：多个传感器板(204)；台，被配置和布置为支撑衬底；电压源(208)，被配置为在传感器板和衬底上的导电图案之间生成电场；致动器(206)，被配置为相对于衬底移动传感...

系统包括照射系统、扫描系统、光学系统、检测器系统和处理器。照射系统引导光束以照射目标结构。扫描系统扫描光束，并且控制光束到目标结构上的焦斑的尺寸。光学系统在光束的扫描期间维持与系统的光轴的对准。检测器系统在光束的扫描期间检测从目标结构生...

用于在诸如扫描电子显微镜之类的带电粒子束系统中的增强边缘检测的系统和方法。该方法使用带电粒子到达事件在检测器表面上的入射位置的空间信息来确定何时在样品上检测到边缘特征。诸如带电粒子到达事件分布的质心偏移之类的不对称参数可以被用于确定边缘...

本公开涉及用于使用多个带电粒子束评估样品的装置和方法。在一种布置中，相对于彼此扫描多个带电粒子束的束栅格的至少子集和样品表面的相应的目标部分，以处理目标部分。检测来自样品的信号带电粒子以生成检测信号。通过分析检测信号，生成表示样品表面的...

公开了一种用于量测装置的传感器模块。传感器模块包括照射设备，该照射设备用于照射衬底上的结构，所述照射设备包括至少第一组照射器和第二组照射器，其中所述第一组照射器包括一个或多个照射器，每个照射器可操作以用包括第一光学特性的第一照射来照射所...

本发明公开一种确定照射‑检测系统的照射‑检测系统对准的方法，所述照射‑检测系统对准依据两个或更多个照射‑检测系统对准参数描述量测设备的至少一个检测器和/或测量照射的对准，每个照射‑检测系统对准参数与用于对准所述检测器和/或所述测量照射的...

公开了一种确定物理量的方法。所述方法使用被配置成对多个位置进行并行采样的传感器系统，其中，对每个位置进行采样使用入射到物体平面图案形成装置（标记）和图像平面传感器上的辐射。每个标记包括第一部分和第二部分，所述第一部分不同于所述第二部分，...

一种用于对评估位置处的样品进行评估的带电粒子光学装置，所述带电粒子光学装置包括：评估带电粒子光学设备，被配置为沿着评估束路径朝向评估位置投射评估带电粒子束，评估带电粒子束用于对评估位置处的样品进行评估；预备带电粒子光学设备，被配置为沿着...

带电粒子检测器包括传感元件阵列，这些传感元件可通过开关矩阵选择性地相互分组。传感元件可按与要检测的束斑的预期形状和位置相对应的形状和位置进行分组。在检测过程中，可实时更新传感元件组。更新可包括向组添加外围传感元件以及从组中移除外围传感元...

一种剂量控制器被配置为：接收由极紫外(EUV)交互产生的EUV脉冲能量的测量，EUV交互发生在由目标光源产生的目标光脉冲与交互区域中的目标之间；接收与用于曝光衬底的期望EUV脉冲能量相关联的EUV脉冲能量设定点；基于所测量的EUV脉冲能...

一种带电粒子光学组件，其被配置将射束栅格中的多个带电粒子束导向样品位置，带电粒子光学组件包括：平面带电粒子光学元件，其被配置以电压对射束栅格的带电粒子束进行操作，该带电粒子光学元件包括用于射束栅格的不同射束的路径的多个孔径；导电体，其电...

公开了用于制造用于带电粒子束装置中的带电粒子检测器的衬底的系统和方法。该衬底可以包括电荷感测元件，该电荷感测元件形成在衬底的第一表面上并且被配置为检测源自样品的带电粒子；以及多个晶体管，该多个晶体管形成在衬底的第二表面的第一区域中，该第...

一种碎片处置装置控制极紫外(EUV)辐射源的室的受控环境内部中的碎片，其中产生的EUV光在室内部内沿着光轴被传输。该碎片处置装置包括：线性阵列的翅片和端口衬垫。翅片相对于彼此被布置为使得在阵列的相邻翅片之间形成沟槽，每个沟槽包括面向排气...

提供了一种改进式装载锁定腔室。该装载锁定腔室包括排气口；第一隔室，该第一隔室被配置为接收晶片以装载到主真空腔室中并且从主真空腔室卸载；以及第二隔室，该第二隔室与第一隔室隔开。该第二隔室被配置为通过排气口接收气体。装载锁定腔室还包括连接第...