柔性供应结构、定位模块和光刻设备制造技术

本发明专利技术提供一种柔性供应结构，用于将第一可移动物体与第二物体连接，其中柔性供应结构包括具有第一磁场取向的第一永磁体，其中柔性供应结构被布置为至少部分地由支撑件支撑，该支撑件包括具有第二磁场取向的第二磁体，使得当第一永磁体和第二磁体彼此面对时，第一永磁体和第二磁体排斥，以在柔性供应结构上施加力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种柔性供应结构和包括这种柔性供应结构的定位模块。本专利技术还涉及一种包括定位模块的光刻设备。

技术介绍

1、光刻设备是构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如制造集成电路（ic）。光刻设备可以例如将图案形成装置（例如掩模）处的图案投影到设置于衬底上的辐射敏感材料（抗蚀剂）层上。

2、为了将图案投影于衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长确定可以形成于衬底上的特征的最小尺寸。相比于可以例如使用波长为193 nm的辐射的光刻设备，使用波长在4-20 nm的范围内（例如6.7 nm或13.5 nm）的极紫外（euv）辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成较小特征。

3、光刻设备包括需要供应体的可移动物体。例如，这些供应体包括流体（例如，冷却流体或真空）、电力（诸如，电功率或控制和测量信号）、和/或光学信号。为了使这些供应体到可移动物体上，可以提供包括供应软管和/或供应电缆的柔性供应结构，以允许供应软管和/或供应电缆在可移动物体和另一物体之间的柔性连接。

4、在一实施例中，柔性供应结构可以例本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种柔性供应结构，所述柔性供应结构用于将第一可移动物体与第二物体连接，

2.根据权利要求1所述的柔性供应结构，其中所述力是举升力。

3.根据权利要求1或2所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构包括一个或多个夹持支架，每个夹持支架夹持一个或多个供应软管和/或供应电缆，其中所述第一永磁体布置在所述一个或多个夹持支架之一中或所述一个或多个夹持支架之一上。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构被设计为以具有下部、中部和上部的C形布置，其中至少所述下部包括所述第一永磁体。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的柔...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种柔性供应结构，所述柔性供应结构用于将第一可移动物体与第二物体连接，

2.根据权利要求1所述的柔性供应结构，其中所述力是举升力。

3.根据权利要求1或2所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构包括一个或多个夹持支架，每个夹持支架夹持一个或多个供应软管和/或供应电缆，其中所述第一永磁体布置在所述一个或多个夹持支架之一中或所述一个或多个夹持支架之一上。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构被设计为以具有下部、中部和上部的c形布置，其中至少所述下部包括所述第一永磁体。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的柔性供应结构，其中所述第一永磁体和所述第二磁体被设计为以浮动状态支撑所述柔性供应结构。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构包括具有第一磁场取向的多个第一永磁体，每个第一永磁体与布置在所述支撑件中或所述支撑件上并具有第二磁场取向的多个第二磁体中的一个相关联，使得当相应的第一永磁体和相应的第二磁体彼此面对时，每个第一永磁体和相关联的第二磁体排斥，以在所述柔性供应结构上施加举升力。

7.根据权利要求6所述的柔性供应结构，其中所述柔性供应结构包括多个夹持支架，每个夹持支架夹持一个或多个供应软管和/或供应电缆，其中两个或更多个夹持元件设置有一个或多个第一永磁体。

8.一种定位模块，包括：

9.根据权利要求8所述的定位模块，其中所述力是举升力。

10.根据权利要求8或9所述的定位模块，其中所述柔性供应结构包括一个或...

【专利技术属性】
技术研发人员：V·F·克鲁斯特曼，M·A·W·苏吉皮尔斯，G·J·P·尼希，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：