【技术实现步骤摘要】
本文中的描述总体上涉及一种图案化过程和一种对期望的图案的搜索。更具体地，本文中的描述涉及一种用于确定与期望的图案匹配的场图案或衬底图案内的图案的设备或方法。
技术介绍
1、光刻设备是将期望的图案施加至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。在该情形下，替代地被称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生与ic的单层对应的电路图案，并且这种图案可以被成像至具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。通常，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至每个目标部分上来照射所述目标部分；和所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上经由束对图案进行扫描的同时平行于或反向平行于这种方向同步地扫描衬底来照射每个目标部分。
2、在将电路图案从图案形成装置转印至衬底之前，衬底可以经历各种工序，诸如涂底漆、抗蚀剂涂覆和软焙烤。在曝光之后，衬底可能经受其它过程，诸如曝光后焙烤(peb...
【技术保护点】
1.一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读介质上记录有指令，所述指令在由处理器执行时实施一种从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法，所述指令被配置成导致所述处理器至少执行如下操作：
2.一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读介质上记录有指令，所述指令在由处理器执行时实施一种从图案集合确定候选图案的方法，所述指令被配置成导致所述处理器至少执行如下操作：
3.根据权利要求2所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中所述第二搜索条件是所述搜索图案的特征的边缘与所述边界框的边缘之间的距离、和/或角度；并且进一步地，所述第二...
【技术特征摘要】
1.一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读介质上记录有指令，所述指令在由处理器执行时实施一种从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法，所述指令被配置成导致所述处理器至少执行如下操作：
2.一种非暂时性计算机可读存储介质，所述非暂时性计算机可读介质上记录有指令，所述指令在由处理器执行时实施一种从图案集合确定候选图案的方法，所述指令被配置成导致所述处理器至少执行如下操作：
3.根据权利要求2所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中所述第二搜索条件是所述搜索图案的特征的边缘与所述边界框的边缘之间的距离、和/或角度；并且进一步地，所述第二搜索条件还包括与介于所述搜索图案的特征的元件和所述边界框之间的所述距离和/或所述角度相关联的公差极限。
4.根据权利要求2至3中的任一项所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中确定所述候选图案的第二集合还包括：
5.根据权利要求4所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中所述一个或更多个参数包括以下中的至少一个：
6.根据权利要求2所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中确定所述候选图案的第二集合还包括：
7.根据权利要求6所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中调整所述边界框包括：
8.根据权利要求7所述的非暂时性计算机可读存储介质，其中所述边界框的大小的增加量和/或减小量在与所述搜索图案的特征的元件和所述边界框之间的...
【专利技术属性】
技术研发人员：V·维拉恩基，M·C·西蒙，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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