公开了一种使用系统内公用载物台针对光刻系统中的晶片台和其他部件提供服务功能的设备和方法，其中公用载物台可以访问多个工具而没有打开容纳公用载物台和晶片台以及其他部件的外壳的任何需要，从而提高产量并减少停机时间。

一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用具有照射系统和投影光学装置的光刻投影设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：(1)获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影...

公开了一种改进的晶片检查方法。该改进的方法包括存储指令集的非暂态计算机可读介质，这些指令可由设备的至少一个处理器执行以使设备执行方法，该方法包括：将晶片放置在载物台上的位置处；以及沿径向方向向内移动导电环的一个或多个可移动部段，以使导电...

披露了一种具有可变刚度的联接件。所述联接件包括：被布置成能够相对于彼此移动的可变形部件及支撑件，其中，所述可变形部件包括黏弹性材料，并且其中，所述支撑件具有被配置为收纳所述可变形部件的凹部，其中，所述可变形部件被配置为当在使用中力被施加...

一种检查装置包括辐射源、光学系统和检测器。辐射源生成辐射射束。光学系统沿着光轴并朝向目标引导射束，以便从目标产生散射辐射。该光学系统包括射束移位器，该射束移位器包括具有空间布置的四个反射表面。射束移位器沿着光轴接收射束；执行射束的反射以...

披露了一种用于测量衬底上的衍射结构的量测设备，包括：辐射源，所述辐射源能够操作以提供用于激发所述衍射结构的第一辐射，所述第一辐射具有第一波长；检测装置，所述检测装置能够操作以至少检测经衍射的第二辐射，所述经衍射的第二辐射包括所述第一辐射...

公开了一种宽带辐射源装置，被配置用于在接收到实质上线性偏振的输入辐射时产生宽带输出辐射，宽带辐射源装置包括：中空芯部光子晶体光纤；至少第一偏振元件，能够操作为在所述输入辐射被所述中空芯部光子晶体光纤接收之前，对所述输入辐射施加实质上圆偏...

描述了基于针对所述图案化过程而估计的局部电场来调整所述图案化过程的模型中的目标特征的方法。所述方法包括获得所关注的掩模叠层区域。所述掩模叠层区域具有与电磁波通过所关注的掩模叠层区域的传播相关联的一个或更多个特性。所关注的掩模叠层区域包括...

一种减少光刻工艺中加热和/或冷却掩模版的影响的方法，包括调节掩模版以将掩模版的初始温度调节至预定温度、减小掩模版中的应力以减少寄生热效应、通过将掩模版和非生产衬底曝光于一定剂量的辐射来校准掩模版加热模型，以及通过将掩模版和生产衬底曝光于...

2021P00202WO19保密。摘要公开了一种确定性能参数分布和/或相关联的分位数函数的方法。方法包括：获得分位数函数预测模型，其可操作为针对衬底位置和给定的分位数概率预测分位数值，使得所预测的分位数值作为分位数概率的函数单调地变化，...

公开了一种用于监测由源模块产生的束相对于光纤的束对准的光纤对准监测工具。所述光纤对准监测工具包括：耦合装置，所述耦合装置用于将所述光纤对准监测工具耦合至所述源模块的束调整工具；和束对准传感器，所述束对准传感器能够操作以感测束对准且提供指...

本文描述了一种用于对与半导体的一个或更多个设计布局相关联的图案进行分组的方法。所述方法涉及获得图案集合(例如，来自一个或更多个设计布局)，其中所述图案集合中的图案包括位于所述图案的边界框内的非相交特征部分(例如，平行栅条)。图案的非相交...

一种燃料液滴喷嘴组件包括第一中空主体和压电元件。第一中空主体包括入口、出口和孔，孔在入口和出口之间延伸。在使用中，燃料(例如液态锡)可以在压力下经由入口被提供到第一中空主体中。压电元件包围第一中空主体，并与第一中空主体直接接触或间接接触...

公开了一种用于确定用于测量来自衬底上的目标结构的感兴趣参数的测量设置的方法。该方法包括：获得第一位置差异数据，该第一位置差异数据描述第一代表性目标结构位置的位置和与产品结构有关的一个或更多个第一特征的位置之间的差异；获得光学量测数据，该...

一些实施例涉及用于形成掩埋结构的图像的方法或装置，其包括：从源发射初级带电粒子；接收来自样品的多个次级带电粒子；以及基于所接收的具有第一范围内的能量的次级带电粒子来形成图像。

本公开提供一种用于低压环境下的高功率的电连接器，所述电连接器包括：公连接部，所述公连接部被构造成连接到第一电源接口；母连接部，所述母连接部用于接收所述公连接部并且被构造成连接到第二电源接口；第一导电屏蔽件，所述第一导电屏蔽件包围所述公连...

一种确定多个数据集之间的偏移的方法，每个数据集表示在样品上形成的图案的采样区域，其中每个采样区域源自掩模图案的预定部分，该方法包括：检测数据集的噪声中的掩模图案的指纹；以及基于掩模图案的指纹确定偏移。

本文中公开了一种用于光刻设备的流体提取系统，该流体提取系统被配置为沿着流动路径提取流体，包括流体处理结构的流体处理系统被布置为提供流体，该流动路径包括在衬底的边缘和所述衬底的围绕结构的边缘之间的间隙；以及控制器，该控制器被布置为根据衬底...

一种用于确定制作于衬底上的结构的感兴趣的参数的量测工具，所述量测工具包括：照射光学系统，用于利用照射辐射以一非零入射角照射所述结构；检测光学系统，包括检测光学传感器和至少一个透镜，所述至少一个透镜用于捕获被所述结构散射的照射辐射的部分并...

公开了一种针对测量应用(335；340；345)优化(300)测量照射的带宽的方法、以及一种相关联的量测装置。该方法包括：利用具有参考带宽的参考测量照射，执行(305)参考测量；以及执行(310；325)一个或多个优化测量，上述一个或多...