本发明公开了一种计算机实施的方法，该方法包括：确定通过光刻投影设备由沿着第一组一个或更多个方向传播的第一辐射部分所形成的第一分图像；确定通过光刻投影设备由沿着第二组一个或更多个方向传播的第二辐射部分所形成的第二分图像；通过以非相干的方式...

一种用于测量行进通过腔室(310)的电子束团或其他带电粒子群的至少一个属性的测量设备，包括：围绕腔室布置的多个电极(302‑308)；多个光学传感器(322‑328)，其中多个电极被配置成向光学传感器提供信号以由此调制光学传感器的至少一...

本发明公开了一种方法，所述方法涉及：通过光学部件将第一偏振状态的入射辐射提供至物体与外部环境界面中，其中一个表面被设置成邻近于所述界面且与所述界面分离开一段间隙；由从所述界面和从所述表面反射的入射辐射来检测由所述界面处的所述第一偏振状态...

一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70)，屏障系统被配置成提供可操作用于减少或...

一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及...

本文披露一种用以改进光刻工艺的计算机实施的方法，所述光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上，所述方法包括：获得目标特征；通过将扰动施加于所述目标特征而从所述目标特征产生经扰动的目标特征；产生训练样本集合，其包括所述经...

一种方法，包括：根据横跨衬底的测量数据，相对于表示拟合测得数据的数学模型的剩余不确定性的参数，对用于拟合测得数据的一个或多个数学模型和用于对数据进行测量的一个或多个测量采样方案进行评价；以及标识参数越过阈值的一个或多个数学模型和/或一个...

光刻制造系统产生具有小于10nm的特征尺寸和周期性方向(D)的周期性结构。具有在EUV光谱中的一定范围的波长(1nm至100nm或1nm至150nm)的辐射的射束(1904)被聚焦成大约(5)μm直径的光斑(S)。反射辐射(1908)被...

本发明公开了一种计算机实施的方法，该方法包括：假设在垂直于第一方向的任何方向上不存在变形的情况下，获得抗蚀剂层(1050)在第一方向上的变形的至少一个特性；假设在所述第一方向上不存在变形的情况下，获得所述抗蚀剂层在第二方向上的变形的至少...

公开了一种测量光刻工艺的参数的方法、以及相关联的计算机程序和设备。该方法包括在衬底上提供多个目标结构，每个目标结构包括在衬底的不同层上的第一结构和第二结构。利用测量辐射来测量每个目标结构以获取目标结构中的目标非对称性的测量，目标非对称性...

公开了一种用于光学量测的方法和设备。例如，公开了一种涉及用于目标的辐射强度分布的方法，所述辐射强度分布是使用与所述目标相距一间隙处的光学部件进行测量的，所述方法包括将用于所述辐射强度分布的辐射强度变化的校正因子作为所述间隙的距离的变化的...

一种辐射系统包括：分束设备，配置成接收主辐射束且将所述主辐射束分成多个分支辐射束；和辐射更改装置，布置成接收输入辐射束且输出修改后的辐射束，其中所述辐射更改装置配置成提供输出的修改后的辐射束，所述输出的修改后的辐射束在与所述所接收的输入...

本文中披露一种用以对使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻工艺加以改进的计算机实施方法，该方法包含：计算多变量成本函数，该多变量成本函数是空间图像或抗蚀剂/光刻胶图像的特性的随机变化的函数，或是变量的函数，该变量是该随机变...

一种光刻设备包括：投影系统，配置成将所期望的图像投影到衬底上；主动模块(120)，产生随时间变化的热负荷；温度调节系统(100)，配置成将光刻设备的部件保持在预定的目标温度；和热缓冲器(110)，包括与主动模块热接触的相变材料，该相变材...

一种光刻设备，包括：定位平台(WT)；隔离框架(300)；投影系统(PS)，包括第一框架(210)；第二框架(220)；支撑框架(10)，用于支撑定位平台；第一振动隔离系统(250)和第二振动隔离系统(270)，其中支撑框架和第一框架经...

本发明公开了一种多层反射镜，所述多层反射镜包括作为最外层的石墨烯。

一种光刻设备(100)包括：衬底台(WT)，构造以保持衬底(W)；投影系统(PS)，配置成通过开口(301)投影图案化辐射束并且将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；和导管(305、306)，具有在开口中的出口(306)。所述导管配置成...

一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主...

本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括：热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)、定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)以及用于在其上定位衬底...

公开了一种用于部件相对于表面的位置控制的方法和设备。所述方法可以包括：计算作用在所述部件和所述表面之间的卡西米尔力的估计效应或由作用在所述部件和所述表面之间的卡西米尔力导出的估计效应；和使用所述估计效应补偿所述部件相对于所述表面的定位。