光刻设备和器件制造方法技术

一种光刻设备，包括：定位平台(WT)；隔离框架(300)；投影系统(PS)，包括第一框架(210)；第二框架(220)；支撑框架(10)，用于支撑定位平台；第一振动隔离系统(250)和第二振动隔离系统(270)，其中支撑框架和第一框架经由第一振动隔离系统而耦合；平台位置测量系统(400)，用于直接地确定定位平台的元件在一个或多个自由度中相对于隔离框架的元件的隔离框架参考的平台参考的位置；以及其中第一框架和隔离框架经由第二振动隔离系统而耦合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备和器件制造方法相关申请的交叉引用本申请要求享有2015年3月3日和2015年5月13日提交的欧洲专利申请EP15157381.3和EP15167646.7的优先权，并且这些申请在此通过全文引用的方式并入本文。
本专利技术涉及一种光刻设备和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是将所需图形施加至衬底、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。可以通过采用来自投影系统的辐射束照射衬底而将所需的图形转移至衬底上。由定位平台支撑衬底并且相对于投影系统而定位。必须正确地对准衬底与投影系统以便使得在衬底上正确位置处施加所需图形。为此目的，测量在衬底的一个或多个自由度中相对于投影系统的至少一个光学元件的位置。定位平台的移动可以导致在衬底位置的测量期间所使用部件相对于投影系统的至少一个光学元件的共振。这些共振导致平台定位误差，其是由于定位平台的不准确测得位置相对于投影系统的至少一个光学元件的定位平台位置误差。希望减小平台定位误差。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：定位平台；隔离框架；投影系统，包括第一框架；第二框架；支撑框架，用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备，包括：－定位平台；－支撑框架，用于支撑所述定位平台；－隔离框架；－投影系统，包括：受力框架；传感器框架；－第一振动隔离系统和第二振动隔离系统，其中:所述受力框架和所述支撑框架经由所述第一振动隔离系统而被耦合；以及所述受力框架和所述隔离框架经由所述第二振动隔离系统而被耦合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.03 EP 15157381.3;2015.05.13 EP 15167646.71.一种光刻设备，包括：－定位平台；－支撑框架，用于支撑所述定位平台；－隔离框架；－投影系统，包括：受力框架；传感器框架；－第一振动隔离系统和第二振动隔离系统，其中:所述受力框架和所述支撑框架经由所述第一振动隔离系统而被耦合；以及所述受力框架和所述隔离框架经由所述第二振动隔离系统而被耦合。2.根据权利要求1所述的光刻设备，包括平台位置测量系统，用于确定所述定位平台的元件的平台参考在一个或多个自由度中相对于所述隔离框架的元件的隔离框架参考的位置。3.根据权利要求1或2所述的光刻设备，其中：所述投影系统进一步包括多个光学元件，所述光学元件附接至所述受力框架；以及光学元件位置测量系统，用于确定所述光学元件相对于所述传感器框架的位置。4.根据权利要求1－3中任一项所述的光刻设备，其中，所述传感器框架安装至所述隔离框架。5.根据权利要求1－3中任一项所述的光刻设备，其中，所述传感器框架经由第三振动隔离系统安装至所述受力框架。6.根据权利要求5所述的光刻设备，进一步包括隔离框架位置测量系统，用于确定所述隔离框架在一个或多个自由度中相对于所述传感器框架...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·巴特勒，M·W·J·E·维杰克曼斯，E·A·F·范德帕施，C·A·霍根达姆，B·A·J·勒提库斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL