支撑装置、光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。

Support device, lithographic device and device manufacturing method

A support device (60) for a lithographic device having an object retainer (61) and an extraction body (65) radially outside the object holder. The object holder is configured to support the object (W). The extraction body includes an extraction opening configured to extract fluid from the top surface of the support device (66). The extraction body and the object keeping piece are spaced apart, so that the extraction subject and the object retainer are decoupled. The extraction body includes a protrusion (30), which is configured to surround the object holding member, and enables the liquid (32) layer to remain on the protrusion and contact the object on the object retainer during use.

【技术实现步骤摘要】
支撑装置、光刻装置和器件制造方法本申请是于2014年11月28日进入中国国家阶段、国家申请号为201380028677.X、专利技术名称为“支撑装置、光刻装置和器件制造方法”的中国专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求2012年5月29日提出的美国临时申请61/652,582的权益，其公开内容在此通过引用以其整体并入。该申请要求2012年6月29日提出的美国临时申请61/666,348的权益，其公开内容在此通过引用以其整体并入。
本专利技术涉及支撑装置、光刻装置和器件制造方法。
技术介绍
光刻装置是将期望图案应用到衬底上的机器，通常应用到衬底的目标部分上。光刻装置可以用于，例如，集成电路(IC)的制造。在这种情况下，图案形成装置，可选地被称为掩模或掩膜版，可以用于生成要形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以转移到衬底上的目标部分(即，包括一个或一些裸片的部分)上。图案的转移通常是通过成像到衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。一般地，单个衬底将包含连续图案化的邻近目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进机，其中每个目标部分是通过一次将整个图案暴露到目标部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和提取主体，在所述物体保持件径向外侧并且部分地在所述物体的外周边缘下面延伸，所述提取主体包括被配置为通过在所述提取主体与所述物体之间形成在所述支撑装置的顶面上的间隙提取流体的第一开口和第二开口，其中所述提取主体与所述物体保持件间隔开，使得所述提取主体与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。

【技术特征摘要】
2012.05.29 US 61/652,582;2012.06.29 US 61/666,3481.一种用于光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和提取主体，在所述物体保持件径向外侧并且部分地在所述物体的外周边缘下面延伸，所述提取主体包括被配置为通过在所述提取主体与所述物体之间形成在所述支撑装置的顶面上的间隙提取流体的第一开口和第二开口，其中所述提取主体与所述物体保持件间隔开，使得所述提取主体与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述第二开口与减压流体连通。3.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述第一开口在所述物体下方被布置在所述第二开口的径向内侧并且与真空流体连通。4.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述提取主体通过中间间隙与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。5.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述提取主体通过密封非刚性地连...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·N·L·唐德斯，M·菲恩，C·A·霍根达姆，M·霍本，J·H·W·雅各布斯，A·H·凯沃特斯，R·W·L·拉法雷，J·V·奥弗卡姆普，N·坦凯特，J·S·C·韦斯特拉肯，A·F·J·德格罗特，M·范贝杰纳姆，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL