支撑装置、光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。

Support device, lithographic device and device manufacturing method

A support device (60) for a lithographic device having an object retainer (61) and an extraction body (65) radially outside the object holder. The object holder is configured to support the object (W). The extraction body includes an extraction opening configured to extract fluid from the top surface of the support device (66). The extraction body and the object keeping piece are spaced apart, so that the extraction subject and the object retainer are decoupled. The extraction body includes a protrusion (30), which is configured to surround the object holding member, and enables the liquid (32) layer to remain on the protrusion and contact the object on the object retainer during use.

【技术实现步骤摘要】
支撑装置、光刻装置和器件制造方法本申请是于2014年11月28日进入中国国家阶段、国家申请号为201380028677.X、专利技术名称为“支撑装置、光刻装置和器件制造方法”的中国专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用本申请要求2012年5月29日提出的美国临时申请61/652,582的权益，其公开内容在此通过引用以其整体并入。该申请要求2012年6月29日提出的美国临时申请61/666,348的权益，其公开内容在此通过引用以其整体并入。
本专利技术涉及支撑装置、光刻装置和器件制造方法。
技术介绍
光刻装置是将期望图案应用到衬底上的机器，通常应用到衬底的目标部分上。光刻装置可以用于，例如，集成电路(IC)的制造。在这种情况下，图案形成装置，可选地被称为掩模或掩膜版，可以用于生成要形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以转移到衬底上的目标部分(即，包括一个或一些裸片的部分)上。图案的转移通常是通过成像到衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。一般地，单个衬底将包含连续图案化的邻近目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进机，其中每个目标部分是通过一次将整个图案暴露到目标部分上而被辐射的，和所谓的扫描器，其中每个目标部分是通过扫描经过沿着给定方向(“扫描”方向)的辐射束的图案同时同步地扫描与该方向平行或反平行的衬底而被辐射的。还可以通过将图案印到衬底上将来自图案形成装置的图案转移到衬底上。已经提出将光刻装置中的衬底浸没具有相对高折射率的液体中，例如水，以便于填充投影系统的最终元件和衬底之间的空间。在一个实施例中，液体是蒸馏水，尽管可以使用另一种液体。本专利技术的实施例将参考液体描述。然而，另一种流体可以是合适的，特别是润湿流体、不可压缩流体和/或具有比空气折射率更高的折射率的流体，期望地比水的折射率更高的折射率。排除气体的流体是特别期望的。由于曝光辐射在液体中将具有更短波长，这样做的意义是能够成像更小特征。(液体的效果还可以视为增大系统的有效数值孔径(NA)和还增大焦深。已经提出其他浸没液体，包括具有悬浮在其中的固态颗粒(例如石英)的水或具有纳米颗粒悬浮物的液体(即，具有最大尺寸高达10nm的颗粒)。悬浮颗粒物可以具有或不具有与悬浮在其中的液体相似或相同的折射率。合适的其他液体包括碳氢化合物，诸如芳烃、氟代烃和/或水溶液。衬底和衬底台浸没液浴(参考，例如，美国专利号4509852)意味着存在必须在扫描曝光期间加速大量液体。这需要额外的或更多强有力的电机，并且液体中的湍流可能导致不期望和不可预知的效果。在浸没装置中，浸没流体是由流体处理系统、设备结构或装置处理。在一个实施例中流体处理系统可以提供浸没流体，因此该系统是流体供应系统。在一个实施例中流体处理系统可以至少部分地限制浸没流体，因而该系统是流体限制系统。在一个实施例中流体处理系统可以提供用于浸没流体的屏障，因而该系统是屏障构件，诸如流体限制结构。在一个实施例中流体处理系统可以产生或使用气体流，以便例如帮助帮助控制浸没流体的流动和/或其位置。气体流可以形成用于限制浸没流体的密封，因此流体处理结构可以被称为密封构件；这样的密封构件可以是流体限制结构。在一个实施例中，浸没液体用作浸没流体。在该实例中流体处理系统可以是液体处理系统。参考前述描述，该段落中关于流体定义的特征可以理解为包括关于液体定义的特征。处理光刻装置中的浸没液体带来一个或多个液体处理问题。间隙通常存在于诸如衬底和/或传感器的物体和物体(例如，衬底和/或传感器)边缘周围的台(例如，衬底台或测量台)之间。美国专利申请公开US2005-0264778公开利用材料填充间隙或提供液体源或低压源故意地利用液体填充所述间隙从而避免当间隙在流体供应系统下方通过时夹杂气泡和/或移除进入间隙的任何液体。
技术实现思路
期望的是，例如，改进光刻装置的物体保持件的温度剖面图的稳定性。根据一个方面，提供光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和在物体保持件径向外侧的提取主体，提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口，其中提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦；其中提取主体包括突起，所述突起配置为使得其围绕物体保持件并且使得在使用中时液体层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。根据一个方面，提供光刻装置的支撑装置，包括：物体保持件；和物体保持件径向外侧的提取主体，该提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口，其中提取主体通过多个周向间隔的接头连接到物体保持件，使得在接头之间，提取主体与物体保持件间隔开。根据一个方面，提供利用光刻装置的器件制造方法，该方法包括：使由图案形成装置图案化的束投影到衬底上同时利用支撑装置支撑衬底，其中支撑装置包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和在物体保持件径向外侧的提取主体，该提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口，其中提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件充分解耦；其中提取主体包括突起，突起配置为使其围绕物体保持件并且使得在使用中流体层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。根据一个方面，提供利用光刻装置的器件制造方法，该方法包括：将图案形成装置图案化的束投影到衬底上同时利用支撑装置支撑衬底，其中支撑装置包括：物体保持件；和在物体保持件径向外侧的提取主体，该提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口，其中提取主体通过多个周向间隔的接头连接到物体保持件，使得在接头之间，提取主体与物体保持件间隔开。根据一个方面，提供包括以下的支撑装置：由具有热导率的台材料形成的台；定位在台的凹口内的主体，其中主体和台之间存在间隙；和桥接从主体的顶面到台的顶面的间隙的构件，该构件包括具有比台材料的热导率更低的热导率的热阻材料的热阻层。根据一个方面，提供利用光刻装置的器件制造方法，该方法包括：将图案形成装置图案化的束投影到衬底上同时利用支撑装置支撑衬底，其中支撑装置包括：由具有热导率的台材料形成的台；定位在台的凹口内的主体，其中主体和台之间存在间隙；和桥接从主体的顶面到台的顶面的间隙的构件，该构件包括具有比台材料的热导率更低的热导率的热阻材料的热阻层。附图说明现在将参考附图只通过实例描述本专利技术的实施例，附图中相对应的参考符号表示相对应的一部分，在附图中：图1描绘根据本专利技术的实施例的光刻装置；图2和图3描绘在光刻投影装置使用的液体供应系统；图4描绘用于光刻投影装置的又一液体供应系统；图5描绘用于光刻投影装置的又一液体供应系统；图6-8描绘一个实施例的支撑装置的一部分的横截面图；图9以平面图描绘一个实施例的支撑装置的一部分的平面图；图10-14描绘一个实施例的支撑装置的一部分的横截面图；图15-19描绘一个实施例的热调节系统的横截面图；图20-30描绘一个实施例的支撑装置的一部分的横截面图。具体实施方式图1示意性地描绘根据本专利技术的一个实施例的光刻装置。该装置包括：-照射系统(照射器)IL，被配置为调节辐射束B(例如，UV辐射或DUV辐射)；-支撑结构(例如，掩模台)MT，被构造为依照一定参数支撑图案形成装置(例如，掩模)MA并连接到被配置为精确定位图案形成装置MA的第一定位器PM；-支撑台，例如，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和提取主体，在所述物体保持件径向外侧并且部分地在所述物体的外周边缘下面延伸，所述提取主体包括被配置为通过在所述提取主体与所述物体之间形成在所述支撑装置的顶面上的间隙提取流体的第一开口和第二开口，其中所述提取主体与所述物体保持件间隔开，使得所述提取主体与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。

【技术特征摘要】
2012.05.29 US 61/652,582;2012.06.29 US 61/666,3481.一种用于光刻装置的支撑装置，包括：被配置为支撑物体的物体保持件；和提取主体，在所述物体保持件径向外侧并且部分地在所述物体的外周边缘下面延伸，所述提取主体包括被配置为通过在所述提取主体与所述物体之间形成在所述支撑装置的顶面上的间隙提取流体的第一开口和第二开口，其中所述提取主体与所述物体保持件间隔开，使得所述提取主体与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述第二开口与减压流体连通。3.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述第一开口在所述物体下方被布置在所述第二开口的径向内侧并且与真空流体连通。4.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述提取主体通过中间间隙与所述物体保持件基本机械解耦和热解耦。5.根据权利要求1所述的支撑装置，其中所述提取主体通过密封非刚性地连...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·N·L·唐德斯，M·菲恩，C·A·霍根达姆，M·霍本，J·H·W·雅各布斯，A·H·凯沃特斯，R·W·L·拉法雷，J·V·奥弗卡姆普，N·坦凯特，J·S·C·韦斯特拉肯，A·F·J·德格罗特，M·范贝杰纳姆，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL