【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种形成研磨垫的方法,包含: 形成一研磨层,该研磨层具有一研磨表面、一第一厚度、一第一压缩度以及一萧式硬度D值介约40至80的硬度,该研磨层具有一厚度不均匀度;以及 形成一背衬层,该背衬层具有一等于或小于该第一厚度的第二厚度,且具有一大于该第一压缩度的第二压缩度; 将该研磨层固定至该背衬层,其中该第一厚度、第一压缩度、第二厚度及第二压缩度可使该研磨表面于1.5psi或更小的一施加压力下偏斜,且其偏斜程度大于该研磨层的厚度不均匀度。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:A迪布施特,SS常,W陆,S内奥,Y王,A马内斯,Y摩恩,
申请(专利权)人:应用材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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