【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种形成研磨垫的方法，包含： 形成一研磨层，该研磨层具有一研磨表面、一第一厚度、一第一压缩度以及一萧式硬度Ｄ值介约４０至８０的硬度，该研磨层具有一厚度不均匀度；以及 形成一背衬层，该背衬层具有一等于或小于该第一厚度的第二厚度，且具有一大于该第一压缩度的第二压缩度； 将该研磨层固定至该背衬层，其中该第一厚度、第一压缩度、第二厚度及第二压缩度可使该研磨表面于１．５ｐｓｉ或更小的一施加压力下偏斜，且其偏斜程度大于该研磨层的厚度不均匀度。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：A迪布施特，SS常，W陆，S内奥，Y王，A马内斯，Y摩恩，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。