【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在基板上实施等离子处理的。
技术介绍
在平板显示器、太阳能电池、半导体装置等的制造工序中，在薄膜的形成、蚀刻等中使用有等离子。等离子是例如通过将气体导入到真空腔内，并向设置在真空腔内的电极施加数MHz?数百MHz的高频而生成的。为了提高生产率，平板显示器、太阳能电池用的玻璃基板的尺寸年年增大，目前用超过2m四方形的玻璃基板进行批量生产。在等离子CVD (Chemical Vapor Deposition:化学气相沉积)等的成膜工序中，为了提高成膜速度，要求更高密度的等离子。此外，为了将向基板表面入射的离子能量抑制得较低来降低离子照射伤害，并抑制气体分子的过剩离解，因此要求电子温度较低的等离子。一般，当提高等离子激励频率时，等离子密度增加且电子温度下降。因而，为了利用较高的总处理能力成膜高质量的薄膜，需要提高等离子激励频率。因此，在等离子处理中使用比通常的高频电源的频率13.56MHz高的、30?300MHz的VHF (Very High Frequency:甚高频)带的高频率来进行生产(例如，参照专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9 - 312268号公报专利文献2:日本特开2009 - 021256号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，当要处理基板的尺寸例如像2m四方形那样大时，在利用上述那样的VHF带的等离子激励频率进行等离子处理的情况下，由于在被施加了高频的电极内所产生的表面波的驻波，导致等离子密度的均匀性下降。一般，当被施加了高频的电极的尺寸比自由空间的波长的1/20大时，在不进行任何对策...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种等离子处理装置，其特征在于，具有: 形成波导路的波导路部件； 传送路，从上述波导路的长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；以及 电场形成用的多个电极，其经由上述波导路被供给电磁能，并以面对等离子形成空间的方式配置， 上述多个电极沿着上述波导路的长度方向排列， 上述多个电极分别沿上述波导路的宽度方向延伸。2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于， 上述多个电极分别由电镀在电介质板的表面上的金属膜形成。3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于， 上述电介质板具有多个形成在上述多个电极的相邻电极之间并沿着该相邻电极延伸的槽。4.根据权利要求2或3所述的等离子处理装置，其特征在于， 上述电介质板与上述波导路部件的一部分相触接。5.根据权利要求2?4中的任一项所述的等离子处理装置，其特征在于， 上述电介质板兼用作喷淋板。6.根据权利要求1?5中的任一项所述的等离子处理装置，其特征在于， 上述波导路部件具有:以形成具有并列的第一隆起部和第二隆起部的波导路的方式形成的第一波导路部件、和与上述第一波导路部件配合来形成上述波导路的第二波导路部件， 还具有第一线圈部件和第...
【专利技术属性】
技术研发人员：平山昌树，
申请(专利权)人：国立大学法人东北大学，
类型：
国别省市：
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