【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种基板处理装置，用于以电浆处理基板，包括：容器，包括形成处理所述基板的处理空间的第一容器部件，以及第二容器部件，第二容器部件形成其中生成电浆的电浆生成空间，并且在第二容器部件安装在第一容器部件上的状态下，所述电浆生成空间与所述处理空间连通；气体导入单元，用于将气体导入到所述容器中；电浆生成单元，包括天线，该天线设置在所述容器的外部空间中并且被配置为使用由馈送自电源的高频电压生成的电场来激发所述电浆生成空间中的所述气体；以及基板保持单元，其能够在所述处理空间中保持所述基板。在被布置为接近所述天线的所述第二容器部件的表面上形成包含半导体材料的覆盖膜。【专利说明】基板处理装置
本专利技术涉及以电浆处理基板的基板处理装置。
技术介绍
作为用于对基板以电浆进行预定的处理的基板处理装置的实例，使用感应耦合电浆的电浆CVD装置或电浆干蚀刻装置被广泛使用。感应耦合干蚀刻装置是通过对被导入气体反应用的反应室内的气体施加高电压并激发气体，而产生感应耦合电浆(以下，称为电浆)，并干蚀刻被配置于基板处理室内的基板的表面的装置。作为感应耦合干蚀刻装置，例如专利文献I...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉田达彦，长谷川雅己，长田智明，
申请(专利权)人：佳能安内华股份有限公司，
类型：
国别省市：
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