【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种高速流动环境下等离子体强化放电的装置,所述装置包括框架(1)、第二上陶瓷板(4)、第二下陶瓷板(5)、第二上铜质电极(8)、第二下铜质电极(9)、上陶瓷云母板(10)、下陶瓷云母板(11)、第二上接线柱(14)和第二下接线柱(15),框架(1)沿纵向中心线设有通道(1?1),通道(1?1)内部通道尺寸长×宽×高为200mm×40mm×20mm,框架(1)的前端面和后端面分别设有法兰(1?2),通道(1?1)的后段上、下壁面分别设有第二上陶瓷板槽(1?5)和第二下陶瓷板槽(1?6),第二上陶瓷板(4)安装在第二上陶瓷板槽(1?5)中,第二下陶瓷板(5)安装在第二下陶瓷板槽 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:唐井峰,魏立秋,李楠,吴竹雨,王友银,于达仁,鲍文,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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