介电器件的制造方法和灰化方法技术

本发明专利技术提供了能够抑制抗蚀剂残留物的介电器件的制造方法和灰化方法。在所述灰化方法中，将通过由有机材料形成的抗蚀剂掩模(6)用含氯气体或氟碳类气体的等离子体对表面进行刻蚀的基材配置在腔室内，在所述腔室内通过氧离子对所述抗蚀剂掩模(6)进行轰击处理，在所述腔室内通过氧自由基去除所述抗蚀剂掩模。根据所述灰化方法，通过氧离子进行的轰击处理，物理去除粘附于所述抗蚀剂掩模表面的刻蚀反应物。由此，可抑制由刻蚀反应物引起的抗蚀剂残留物的产生，可有效地从所述基材表面去除所述抗蚀剂掩模。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉田善明，小风豊，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：
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