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本发明提供了能够抑制抗蚀剂残留物的介电器件的制造方法和灰化方法。在所述灰化方法中，将通过由有机材料形成的抗蚀剂掩模(6)用含氯气体或氟碳类气体的等离子体对表面进行刻蚀的基材配置在腔室内，在所述腔室内通过氧离子对所述抗蚀剂掩模(6)进行轰击处...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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