真空蒸镀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其配设于真空容器（10）内，用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件（12）旋转；蒸镀构件（34），其以与基板（14）对置的方式设置；以及能量粒子源（38），其用于对基板（14）照射能量粒子。能量粒子源（38）在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器（10）配设的门（10a）的内壁面。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及薄膜的真空蒸镀装置，特别涉及具备对基板照射离子等的能量粒子源的真空蒸镀装置。
技术介绍
以往，已知有在真空容器内使薄膜材料朝向基板表面蒸发时，通过向堆积在基板上的蒸镀层照射离子来进行致密化的离子辅助蒸镀装置(例如，专利文献I)。在这样的蒸镀装置中，利用离子枪向基板照射较低能量的气体离子，同时利用中和器向基板照射中和电子(电子)，由此能够中和气体离子所导致的基板上的电荷的偏移，同时利用气体离子的动能来制作致密的膜。专利文献1:日本特许第4540746号公报但是，在专利文献I等现有的离子辅助蒸镀装置中，离子源配设于真空容器的底面或门以外的侧面，因此在进行离子源的部件更换或清扫等维护时，作业者需要使身体大幅进入真空容器内，所以期望维护的作业性的提高。
技术实现思路
本技术是鉴于上述课题而完成的，本技术的目的在于，提供在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。所述课题根据技术方案I的真空蒸镀装置，通过如下方式解决，即，该真空蒸镀装置在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，其中，该真空蒸镀装置构成为具备:拱顶型的基板保持构件，其配设于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空蒸镀装置，其在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板，所述真空蒸镀装置的特征在于，该真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件，其配设在所述真空容器内，用于保持多个所述基板；旋转构件，其用于使该基板保持构件旋转；蒸镀构件，其以与所述基板对置的方式设置；以及能量粒子源，其用于对所述基板照射能量粒子，所述能量粒子源在能量粒子诱导部朝向所述基板方向的状态下，安装于在所述真空容器配设的门的内壁面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：盐野一郎，林达也，姜友松，宫内充祐，冈田胜久，长江亦周，
申请(专利权)人：株式会社新柯隆，
类型：实用新型
国别省市：