采用激光加热的PVD设备制造技术

本发明专利技术适用于材料镀膜设备领域，公开了一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，所述腔体内还设置有用于加热所述靶材的激光聚焦组件，所述蒸发舟设置于所述激光聚焦组件的上端。本发明专利技术提供的一种采用激光加热的PVD设备，壳体内具有密封的腔体，腔体内设置有用于加热的激光聚焦组件，激光聚焦组件将激光源聚焦，对靶材进行加热，靶材受热激发，对待镀材料进行镀膜。采用激光对靶材进行加热，其加热速度快、镀膜效率高、提高了生产效率，形成的镀膜均匀平整，达到了使用的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料镀膜设备领域，尤其涉及一种采用激光加热的PVD设备。
技术介绍
PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,指利用物理过程实现物质转移，将靶材蒸发源的原子或分子转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法为:在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。物理气相沉积技术已在镀膜领域广泛运用，现有技术中，加热方式一般都是使用红外加热靶材，将靶材激发形成镀膜粒子，使用红外加热靶材的方式效率低，所镀出来的膜厚也不均匀，镀膜表面粗糙。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种采用激光加热的PVD设备，其加热速度快，效率高，镀膜均匀、表面光滑平整。本专利技术的技术方案是:一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容 放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，其特征在于，所述腔体内还设置有用于加热所述靶材的激光聚焦组件，所述蒸发舟设置于所述激光聚焦组件的上端。

【技术特征摘要】
1.一种采用激光加热的PVD设备，包括壳体，所述壳体具有密封的腔体，所述腔体内设有用于容放靶材的蒸发舟，所述壳体两相对的侧面分别开设有供待镀材料进入的进料口、供所述待镀材料离开的出料口，其特征在于，所述腔体内还设置有用于加热所述靶材的激光聚焦组件，所述蒸发舟设置于所述激光聚焦组件的上端。2.如权利要求1所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述腔体内还设置有用于固定安装所述激光聚焦组件的基台，所述激光聚焦组件连接于所述基台，所述激光聚焦组件包括用于聚焦激光源的聚焦头和用于连接传输激光光纤的光纤连接管，所述聚焦头与所述光纤连接管相连接，所述基台的两侧设置有安装孔和固定槽，所述聚焦头插设于所述安装孔内，所述光纤连接管设置于所述固定槽内。3.如权利要求2所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述安装孔和固定槽所述设置有多个且均匀排列于所述基台相对的两侧面，所述聚焦头和所述光纤连接管相应地设置有多个，各所述聚焦头分别设置于所述安装孔内，各所述光纤连接管分别设置于所述固定槽内。4.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述蒸发舟具有用于容纳所述靶材的容纳腔，所述蒸发舟上设置有用于喷射所述靶材受热后形成的镀膜粒子的喷口，所述喷口呈细缝状，所述喷口两侧的上方设置有用于改变所述镀膜粒子运动轨迹的磁极。5.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述基台设置有所述聚焦头的一端与所述蒸发舟的底部相叠设连接。6.如权利要求3所述的采用激光加热的PVD设备，其特征在于，所述基台连接有用于驱动所述基台相对所述待镀材料移动的驱动装置，所述驱动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动所述丝杆...

【专利技术属性】
技术研发人员：王奉瑾，
申请(专利权)人：王奉瑾，
类型：发明
国别省市：