微波激发PVD镀膜设备制造技术

本发明专利技术提供了一种微波激发PVD镀膜设备，包括壳体及靶材，还包括具有微波发射喇叭的微波发生器，该壳体具有密封的PVD腔体，PVD腔体内安装有靶材载舟，靶材载舟具有用于放置靶材的容置槽，待镀膜材料位于容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对；微波发生器的本体安装于PVD腔体外，其微波发射喇叭设于PVD腔体内；PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于靶材载舟与所述待镀膜材料之间。PVD腔体内安装有用于驱动靶材载舟沿待镀膜材料表面平行移动的移动装置。本发明专利技术加热效率高、镀膜效率高、容易控制加热温度、不易损坏待镀膜材料、制造成本低廉，本发明专利技术所镀的膜厚均匀、镀膜表面光滑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于物理气相沉积
，尤其涉及一种微波激发PVD镀膜设备。
技术介绍
物理气相沉积(英文Physical Vapor Deposition,简称PVD)是一种工业制造上的工艺，即真空镀膜，多用在钣金件、蚀刻件、挤压件、金属射出成型(MIM)、粉末射出成型(PM)、机加件、焊接件等零件的工艺上。物理气相沉积法是利用高温热源将原料加热至高温，使之气化或形成等离子体，然后在基体(即待镀膜材料)上冷却凝聚成各种形态的材料(如单晶、薄I吴、晶粒等)。在物理气相沉积中，热蒸镀法及溅镀法是工业界广泛采用的镀膜技术，其中热蒸镀法是这项技术的核心。热蒸镀技术原则上利用高温来熔融靶材(即镀膜原料)，使其由固态直接升华到气态，气态的靶材原子或分子因加温而激烈加速运动通过真空腔体，在基板上凝结沉积成薄膜。在这个过程中，真空是一个很重要的因素，若腔体中充满了空气分子，则靶材原子会因在行进时不断地碰撞空气分子而偏离该行进的方向，造成大多数的靶材原子无法撞击到基板的表面，无法达到镀膜的效果。将原料加热到高温蒸发升华是热蒸镀技术的核心。现有技术中，靶材(即原料)的加热方式一般有以下几种热阻式加热法、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微波激发PVD镀膜设备，包括壳体及靶材，其特征在于：还包括具有微波发射喇叭的微波发生器，所述壳体具有密封的PVD腔体，所述PVD腔体内安装有靶材载舟，所述靶材载舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待镀膜材料位于所述容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对；所述微波发生器的本体安装于所述PVD腔体外，其微波发射喇叭设于所述PVD腔体内；所述PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于所述靶材载舟与所述待镀膜材料之间。

【技术特征摘要】
1.一种微波激发PVD镀膜设备，包括壳体及靶材，其特征在于还包括具有微波发射喇叭的微波发生器，所述壳体具有密封的PVD腔体，所述PVD腔体内安装有靶材载舟，所述靶材载舟具有用于放置所述靶材的容置槽，待镀膜材料位于所述容置槽上方且其需镀膜的一面与之相对；所述微波发生器的本体安装于所述PVD腔体外，其微波发射喇叭设于所述PVD 腔体内；所述PVD腔体内横设有用于屏蔽微波的金属网，该金属网位于所述靶材载舟与所述待镀膜材料之间。2.如权利要求1所述的微波激发PVD镀膜设备，其特征在于所述PVD腔体内安装有用于驱动所述靶材载舟沿所述待镀膜材料表面平行移动的移动装置。3.如权利要求2所述的微波激发PVD镀膜设备，其特征在于所述移动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动该丝杆转动的第一电机，所述靶材载舟开设有与所述丝杆的螺纹适配的螺孔，所述丝杆穿设于所述螺孔内。4.如权利要求1所述的微波激发PVD镀膜设备，其特征在于所述壳体开设有供所述待镀膜材料进入所述PVD腔体的进料口，所述壳体还开设有供所述待镀膜材料离开所述 PV...

【专利技术属性】
技术研发人员：王奉瑾，
申请(专利权)人：王奉瑾，
类型：发明
国别省市：