一种CIGS薄膜电池的激光沉积制备工艺制造技术

技术编号:8653360 阅读:159 留言:0更新日期:2013-05-01 20:38
本发明专利技术公开了一种CIGS薄膜电池的激光沉积制备工艺,依次在Mo玻璃衬底上沉积钠化合物薄膜、CIGS薄膜、缓冲层薄膜和窗口层薄膜得到CIGS器件;本发明专利技术针对CIGS薄膜电池多层膜的特点,采用简洁的多靶连续旋转激光沉积,在同一真空腔内,共享一套激光系统便可连续制备出钠化合物薄膜、CIGS薄膜、缓冲层薄膜及窗口层薄膜,因而具有众多优点,另外由于整个电池器件主体包括p-n节的制备过程均未破真空,因而空气及杂质污染极少,在蒸发上Ni-Al电极并对电池进行退火处理之后,可得到转换效率高于12%的CIGS光伏器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜光伏器件制备及激光应用领域,特别涉及一种制备铜铟镓硒薄膜及电池器件的方法。
技术介绍
铜铟镓硒(CuInGaSe2,简写CIGS)类为代表的新一代薄膜电池由于具有吸收率高、带隙可调、成本低廉、转换率高、弱光性好、性能稳定以及抗辐射能力强等优点,而被公认为是第三代太阳能电池的最佳材料之一,因而已成为当前国际光伏界的研究热点。CIGS电池是以CIGS材料为光吸收层的一类薄膜电池。近年来在其优良性能和巨大需求背景之下,包括美国可再生能源实验室NREL、全球太阳能GSE、壳牌太阳能She 11 So I ar、日本本田Honda、昭和壳牌石油Showa Shell、德国伍尔特Wurth Solar等全球近50家公司机构投入巨额财力和人力进行研发与生产,2011年产能达到GW水平,显示出良好的发展势头。CIGS薄膜电池的制备工艺可分为真空工艺和非真空工艺。非真空工艺虽然成本相对较低,但薄膜质量较差、效率低下,目前还处于研发阶段。而目前高效率的CIGS光伏吸收层材料均为真空条件下沉积制得的,如共蒸法或溅射后硒化工艺。但传统的真空生产工艺,均需要昂贵的真空设备系统、制程复杂、成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种CIGS薄膜电池的激光沉积制备工艺,其特征在于:依次在Mo玻璃衬底上沉积钠化合物薄膜、CIGS薄膜、缓冲层薄膜和窗口层薄膜得到CIGS器件;所述钠化合物薄膜通过热蒸发沉积、溅射沉积、激光沉积或电子束沉积得到,所述钠化合物选自NaF、NaCl、NaBr、NaI、Na2O、Na2O2、Na2CO3、Na2SO4、NaHCO3、NaHSO4中的一种或几种,所述钠化合物薄膜的厚度为10?50nm;所述CIGS薄膜通过激光沉积得到,沉积所述CIGS薄膜的靶材为含Se多元靶材,所述含Se多元靶材按配比量选自Cu2Se、CuSe、In2Se3、InSe、Ga2Se3、GaSe、(In,Ga)2Se3、C...

【技术特征摘要】
1.一种CIGS薄膜电池的激光沉积制备工艺,其特征在于: 依次在Mo玻璃衬底上沉积钠化合物薄膜、CIGS薄膜、缓冲层薄膜和窗口层薄膜得到CIGS器件; 所述钠化合物薄膜通过热蒸发沉积、溅射沉积、激光沉积或电子束沉积得到,所述钠化合物选自 NaF、NaCl、NaBr、Na1、Na2O, Na2O2、Na2CO3、Na2SO4、NaHCO3、NaHSO4 中的一种或几种,所述钠化合物薄膜的厚度为10-50nm ; 所述CIGS薄膜通过激光沉积得到,沉积所述CIGS薄膜的靶材为含Se多元靶材,所述含 Se 多兀革巴材按配比量选自 Cu2Se、CuSe、In2Se3、InSe、Ga2Se3、GaSe、(In, Ga) 2Se3、CuInSe2、CuGaSe2, CuInGaSe2中的一种或几种,所述CIGS薄膜的厚度为1.5-2.5um; 所述缓冲层薄膜通过激光沉积得到,沉积所述缓冲层薄膜的靶材选自ZrvxMgxCKCdZnS, ZeSe, ZnS, ZnIn2Se4, In2S3 或 In (OH) aSb,所述缓冲层薄膜的厚度为 45_55nm ; 所述窗口层薄膜是在氧气分压O-1OOPa下通过...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗派峰周丽丁远奎
申请(专利权)人:合肥工业大学
类型:发明
国别省市:

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