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本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构...
该专利属于株式会社新柯隆所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社新柯隆授权不得商用。

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