一种蒸发源系统及真空蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:15596065 阅读:123 留言:0更新日期:2017-06-13 22:15
本实用新型专利技术公开了一种蒸发源系统及真空蒸镀装置,蒸发源系统包括:至少两个线状蒸发源,所述线状蒸发源包括沿其延伸方向设置的多个喷嘴;不同所述线状蒸发源沿所述线状蒸发源延伸方向对应位置处的所述喷嘴构成一喷嘴组,每个所述喷嘴组中的任意两个所述喷嘴之间的距离小于等于20厘米。通过本实用新型专利技术的技术方案,提高多个线状蒸发源共蒸镀成膜均匀性的同时,降低了由于蒸发角增大导致的阴影效应,提高了有机电致发光器件的显示质量。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源系统及真空蒸镀装置
本技术实施例涉及显示
,尤其涉及一种蒸发源系统及真空蒸镀装置。
技术介绍
构成有机电致发光器件的各膜层一般通过蒸镀形成,线状蒸发源由于其成膜均匀的特性被广发应用于有机电致发光器件的制作。对于需要共混掺杂多种材料的膜层,需要多个蒸发源蒸镀成膜,目前采用多个蒸发源进行下料的共蒸镀,在每个线状蒸发源两侧设置角度板,通过调整角度板到每个线状蒸发源的距离以及角度板的高度调节对应每个线状蒸发源的蒸发角以及蒸发面积。一方面,线状蒸发源之间有一定的间隔,势必会导致蒸镀的膜层除了不同材料共混掺杂的部分,还存在只包含某一种材料的单层膜层,随着蒸发源个数的增多,单层膜层和薄层膜层也会更多更复杂,降低了成膜的均匀性。另一方面,蒸镀相同面积的共混掺杂膜层,由于每相邻两线状蒸发源之间均设置有角度板,蒸发角会随着线状蒸发源的增多而增大。但是,蒸发角的增大会增加蒸镀过程中的阴影效应。特定形状的膜层一般需要通过掩膜版进行蒸镀,当线状蒸发源喷嘴喷射出的蒸镀材料垂直于掩膜板通孔位置即蒸发角为零时,能够形成需要的蒸镀形状,随着蒸发角的增加,蒸镀材料经过掩膜版通孔形成扇面形状,在需要成膜位置的两侧延伸蒸镀材料,造成阴影效应,且蒸发角越大,成膜位置两侧延伸的蒸镀材料越多,阴影效应越严重,而阴影效应影响掩膜板开口率的增加,造成不同发光颜色像素区域之间出现混色现象,进而影响有机电致发光器件的显示质量。
技术实现思路
本技术提供一种蒸发源系统及真空蒸镀装置,以实现增加多个线状蒸发源共蒸镀成膜均匀性的同时,减小由于蒸发角增大导致的阴影效应,提高有机电致发光器件的显示质量。第一方面,本技术实施例提供了一种蒸发源系统,包括:至少两个线状蒸发源,所述线状蒸发源包括沿其延伸方向设置的多个喷嘴;不同所述线状蒸发源沿所述线状蒸发源延伸方向对应位置处的所述喷嘴构成一喷嘴组,每个所述喷嘴组中的任意两个所述喷嘴之间的距离小于等于20厘米。第二方面,本技术实施例还提供了一种真空蒸镀装置,包括第一方面所述的蒸发源系统。本技术实施例提供了一种蒸发源系统及真空蒸镀装置,通过将不同线状蒸发源沿线状蒸发源延伸方向对应位置处的喷嘴构成一喷嘴组,且使每个喷嘴组中的任一两个喷嘴组之间的距离小于等于20厘米。解决了多个线状蒸发源进行共蒸镀时,由于每相邻两线状蒸发源之间均设置有角度板,蒸镀膜层均与性差,蒸发角大导致的阴影效应严重的问题,提高多个线状蒸发源共蒸镀成膜均匀性的同时,降低了由于蒸发角增大导致的阴影效应,提高了有机电致发光器件的显示质量。附图说明图1为本技术实施例提供的一种蒸发源系统的俯视结构示意图;图2为图1所示蒸发源系统的局部剖面结构示意图;图3为图1所示蒸发源系统的一种结构示意图;图4为图1所示蒸发源系统的又一种结构示意图;图5为本技术实施例提供的又一种蒸发源系统的俯视结构示意图;图6为本技术实施例提供的又一种蒸发源系统的俯视结构示意图。图7为本技术实施例提供的一种真空蒸镀装置示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术,而非对本技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。本技术实施例提供了一种蒸发源系统,包括至少两个线状蒸发源,线状蒸发源包括沿其延伸方向设置的多个喷嘴,且不同线状蒸发源沿线状蒸发源延伸方向对应位置处的喷嘴构成一喷嘴组,每个喷嘴组中的任意两个喷嘴之间的距离小于等于20厘米。真空蒸镀使用的线状蒸发源具有封入蒸镀材料的坩埚和喷出蒸镀材料的喷嘴,进行真空蒸镀时,使蒸镀材料从加热的坩埚蒸发或升华,从喷嘴向设置于真空腔室内的待蒸镀基板或膜层上喷射气化的蒸镀材料形成所需膜层。当需要在同一腔室内对两种以上不同材料共混掺杂的膜层进行蒸镀时,采用共蒸镀技术,即在相同的真空腔室中设置多个线状蒸发源,在不同的线状蒸发源的坩埚内配置不同的材料。本技术实施例提供了一种蒸发源系统,通过将不同线状蒸发源沿线状蒸发源延伸方向对应位置处的喷嘴构成一喷嘴组,且使每个喷嘴组中的任意两个喷嘴之间的距离小于等于20厘米,可选的,任意两个喷嘴之间的距离小于2厘米,大大减小了用于蒸镀不同材料的线状蒸发源喷嘴之间的距离,解决了多个线状蒸发源进行共蒸镀时,由于角度板的设置而导致的蒸镀膜层均匀性差,以及蒸发角增大导致的阴影效应严重的问题,提高多个线状蒸发源共蒸镀成膜均匀性的同时,降低了由于蒸发角增大导致的阴影效应,提高了有机电致发光器件的显示质量。可选的,沿线状蒸发源延伸方向,不同线状蒸发源的喷嘴可以交替设置,且使交替设置的不同线状蒸发源喷嘴之间的距离小于2厘米。可选的,沿线状蒸发源延伸方向的垂直方向,不同线状蒸发源的喷嘴也可以并排设置,且使并排设置的不同线状蒸发源喷嘴之间的距离小于2厘米,以提高不同线状蒸发源共蒸镀成膜的均匀性,同时降低由于蒸发角增大导致的阴影效果。可选的,至少一线状蒸发源用来蒸发的材料包括有机发光主体材料,至少一线状蒸发源用来蒸发的材料包括有机发光客体材料。示例性的,有机电致发光器件中的发光材料层可以包括有机发光主体材料和有机发光客体材料,例如红色像素区域的发光材料层和/或蓝色像素区域的发光材料层可以采用一种或两种有机发光主体材料并掺杂有有机发光客体材料,绿色像素区域的发光材料层可以采用至少两种有机发光主体材料并掺杂有机发光客体材料,可以通过本技术实施例提供的蒸发源系统制作有机电致发光器件的发光材料层的有机发光主客体材料共混掺杂膜层。可选的,至少两个线状蒸发源被控制为同时进行蒸镀。示例性的,可以控制至少两个线状蒸发源沿同一方向同时运动,能够保证共蒸镀成膜的均匀性。需要说明的是,本技术对每个线状蒸发源蒸镀时的运动方向不作限定,只要保证用于蒸镀不同材料的线状蒸发源可以被控制同时进行蒸镀以形成均匀的共混掺杂膜层即可。下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下,所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。图1为本技术实施例提供的一种蒸发源系统的俯视结构示意图,图2为图1所示蒸发源系统的局部剖面结构示意图。如图1所示,蒸发源系统包括第一线状蒸发源和第二线状蒸发源,沿第一线状蒸发源延伸方向排列设置的多个第一喷嘴1,沿第二线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第二喷嘴2,沿线状蒸发源延伸方向,第一喷嘴1和第二喷嘴2交替设置,且每个第一喷嘴1与对应的第二喷嘴2之间的距离d小于等于20厘米。可选的,蒸发源系统还包括盖板110,所有的喷嘴对应同一盖板110。示例性的,第一线状蒸发源和第二线状蒸发源对应位置处的喷嘴可以构成一喷嘴组,如图1所示,第一喷嘴1和第二喷嘴2可以构成一喷嘴组100。示例性的,第一线状蒸发源用于蒸镀第一材料,第二线状蒸发源用于蒸镀第二材料,二者可以被同时控制进行第一材料与第二材料的共混蒸镀,图1中的第一喷嘴1与第二喷嘴2之间的距离d小于等于20厘米,相对于在第一线状蒸发源与第二线状蒸发源之间设置角度板的情况,本技术实施例提供的蒸发本文档来自技高网...
一种蒸发源系统及真空蒸镀装置

【技术保护点】
一种蒸发源系统,其特征在于,包括:至少两个线状蒸发源,所述线状蒸发源包括沿其延伸方向设置的多个喷嘴;不同所述线状蒸发源沿所述线状蒸发源延伸方向对应位置处的所述喷嘴构成一喷嘴组,每个所述喷嘴组中的任意两个所述喷嘴之间的距离小于等于20厘米。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源系统,其特征在于,包括:至少两个线状蒸发源,所述线状蒸发源包括沿其延伸方向设置的多个喷嘴;不同所述线状蒸发源沿所述线状蒸发源延伸方向对应位置处的所述喷嘴构成一喷嘴组,每个所述喷嘴组中的任意两个所述喷嘴之间的距离小于等于20厘米。2.根据权利要求1所述的蒸发源系统,其特征在于,沿所述线状蒸发源延伸方向,不同所述线状蒸发源的所述喷嘴交替设置。3.根据权利要求1所述的蒸发源系统,其特征在于,沿所述线状蒸发源延伸方向的垂直方向,不同所述线状蒸发源的所述喷嘴并排设置。4.根据权利要求1所述的蒸发源系统,其特征在于,包括第一线状蒸发源和第二线状蒸发源;沿所述第一线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第一喷嘴;沿所述第二线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第二喷嘴;沿所述线状蒸发源延伸方向,所述第一喷嘴和所述第二喷嘴交替设置。5.根据权利要求1所述的蒸发源系统,其特征在于,包括第一线状蒸发源和第二线状蒸发源;沿所述第一线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第一喷嘴;沿所述第二线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第二喷嘴;沿所述线状蒸发源延伸方向的垂直方向,所述第一喷嘴和所述第二喷嘴并排设置。6.根据权利要求1所述的蒸发源系统,其特征在于,包括第一线状蒸发源、第二线状蒸发源和第三线状蒸发源;沿所述第一线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第一喷嘴;沿所述第二线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第二喷嘴;沿所述第三线状蒸发源延伸方向排列设置有多个第三喷嘴;沿每个线状蒸发源延伸方向...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕磊牛晶华阎洪刚雷志宏
申请(专利权)人:上海天马有机发光显示技术有限公司天马微电子股份有限公司
类型:新型
国别省市:上海,31

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