一种蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法，蒸镀装置包括：主基板，辅助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。本发明专利技术提供的蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法，有效的避免了蒸镀过程中，基板在对位过程中由于自身重量而下垂，导致掩膜版与基板对位误差较大问题，提高产品良率。

Evaporation device and organic electroluminescent display panel evaporation method

The invention discloses a vapor deposition device and an organic electroluminescent display panel evaporation method, wherein, the evaporation device comprises a main substrate and an auxiliary substrate, wherein the main substrate comprises a mask plate and an adsorption portion. Plating device and organic electroluminescent display panel plating method provided by the invention of steam, effectively avoid the evaporation process, the substrate in alignment process due to its own weight and drooping, cause the mask and substrate alignment errors, improve product yield.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法
本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种蒸镀装置及使用该蒸镀装置的有机电致发光显示面板蒸镀方法。
技术介绍
显示装置是一种显示图像的装置。近年来，OLED(OrganicLightEmittingDiode)显示器逐渐进入到消费品显示装置市场中，被人们所认知。OLED显示器具有自发光特性。因为OLED显示器不需要独立的光源，所以其可具有相对液晶显示器较小的厚度和重量。此外，OLED显示器还具有色彩丰富、电压需求低且省电效率高等特性。通常地，OLED显示器包括多个像素，用于发射不同颜色的光。多个像素发射光以显示图像，TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)来驱动每个像素。另外，绝缘层(如像素限定层)可限定每个像素的区域和形状。进一步，每个像素可定位在其相邻的像素之间。随着高分辨率显示装置的应用越来越广泛，对显示装置的分辨率的要求也越来越高。目前，通常通过减小像素的尺寸并减小像素间的间距来达到提高显示装置分辨率的目的，但是随着工艺技术的不断细化，会导致显示装置的工艺难度和制造成本的增加。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提出一种蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法。一种蒸镀装置，包括：主基板，辅助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。本专利技术还提供一种有机电致发光显示面板蒸镀方法，包括使用上述蒸镀装置。可选的，该有机电致发光显示面板蒸镀方法，包括：将所述蒸镀基板放在所述主基板的平滑表面，所述辅助基板的所述吸附装置开启，吸附所述掩膜版，将主基板与辅助基板对位，开启所述掩膜版吸附部，关闭所述辅助基板的所述吸附装置开启，并将主基板与辅助基板翻转180°，移除辅助基板后，开始有机电致发光显示面板的蒸镀。本专利技术提供的蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法，有效的避免了蒸镀过程中，基板在对位过程中由于自身重量而下垂，导致掩膜版与基板对位误差较大问题，提高产品良率。附图说明图1为本专利技术提供的一种蒸镀装置的辅助基板剖视图；图2为本专利技术提供的一种蒸镀装置的辅助基板示意图；图3为本专利技术提供的一种蒸镀装置的主基板剖视图；图4为本专利技术提供的一种蒸镀装置的主基板示意图；图5为本专利技术提供的一种掩膜版剖视图；图6为本专利技术提供的一种掩膜版示意图；图7a-7f为本专利技术提供的一种有机电致发光显示面板蒸镀方法流程图。具体实施方式尽管下面将参照附图对本专利技术进行更详细的描述，其中表示了本专利技术的优选实施例，应当理解为本领域技术人员可以在此描述的基础上进行修改，而仍然可以实现本专利技术的有利效果。因此，下列的描述应当被理解为对本领域技术人员的思路的扩展，而并不作为对本专利技术的限制。为了清楚的描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本专利技术由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对本领域技术人员来说仅仅是常规工作。在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本专利技术。根据下列说明使本专利技术的要点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、清晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。本专利技术实施方式提供一种蒸镀装置，包括：主基板，辅助基板，其中，主基板包括掩膜版吸附部，主基板与辅助基板相对设置，掩膜版吸附部可以设置在主基板内部，也可以设置在主基板表面，在本实施方式中，对此不作限定，下面将通过附图对本专利技术提供的蒸镀装置结构进行详尽说明。如图1、图2所示，图1为本专利技术提供的一种蒸镀装置的辅助基板剖视图，图2为本专利技术提供的一种蒸镀装置的辅助基板示意图；蒸镀装置的辅助基板包括吸附装置101，在本实施方式中，吸附装置101为磁力掩膜版吸附装置，磁力掩膜版吸附装置在电流的控制下可以产生磁场，通过磁力吸附至少部分由磁性金属构成的掩膜版。在其他实施方式中，吸附装置101也可以为真空掩膜版吸附装置，吸附装置用于将掩膜版吸附在辅助基板面向主基板一侧的表面104，辅助基板还包括辅助对位装置102，该辅助对位装置102可以为摄像头，用于采集对位信息，也可以为对位标记，用于提供位置信息。如图3、图4所示，图3为本专利技术提供的一种蒸镀装置的主基板剖视图，图4为本专利技术提供的一种蒸镀装置的主基板示意图；蒸镀装置的主基板包括掩膜版吸附部201，掩膜版吸附部201包括电磁单元，电磁单元在电流的控制下可以产生磁场，通过磁力吸附至少部分由磁性金属构成的掩膜版，蒸镀装置的主基板还包括真空吸附部，真空吸附部用于吸附蒸镀基板，将蒸镀基板固定在所述主基板面向辅助基板一侧的表面204，主基板还包括对位装置202，该对位装置202可以为对位标记，用于提供位置信息，也可以摄像头，用于采集对位信息。主基板面向所述辅助基板一侧面为至少部分区域为平滑表面，以便蒸镀基板平整的固定在主基板面向辅助基板一侧的表面204。上述主基板与辅助基板可以在机械作用下反转180°，也就是说，可以主基板位于辅助基板上方，也可以通过机械作用，主基板位于辅助基板下方。本专利技术实施方式提供的蒸镀装置，通过磁力吸附，将掩膜版吸附在主基板一侧，有效的避免了蒸镀过程中，基板在对位过程中由于自身重量而下垂，导致掩膜版与基板对位误差较大问题，提高产品良率。可选的，本专利技术实施方式中，主基板还包括主基板沟槽203，辅助基板还包括辅助基板沟槽103，进一步参考图5、图6，图5为本专利技术提供的一种掩膜版剖视图，图6为本专利技术提供的一种掩膜版示意图；掩膜版包括掩膜部分301以及框架302，所述框架302尺寸与所述主基板沟槽203、辅助基板沟槽103相匹配。本专利技术实施方式还提供一种有机电致发光显示面板蒸镀方法，如图7a-7f所示，图7a-7f为本专利技术提供的一种有机电致发光显示面板蒸镀方法流程图，该有机电致发光显示面板蒸镀方法使用上述提供的蒸镀装置。有机电致发光显示面板蒸镀方法具体包括：如图7a所示，将所述蒸镀基板400放在主基板200的平滑表面，并且蒸镀基板400放在主基板200朝向辅助基板100的一侧面，辅助基板100的吸附装置开启，吸附掩膜版300，掩膜版300位于辅助基板100朝向主基板200的一侧面，如图7b、7c所示，将主基板与辅助基板对位，并逐渐靠近，直至掩膜版300与蒸镀基板400贴合，开启掩膜版吸附部以及主基板的真空吸附部，关闭辅助基板的吸附装置，如图7d所示，并将主基板200与辅助基板100翻转180°，并如7e所示移除辅助基板100，此时掩膜版与蒸镀基板被吸附在主基板表面，如图7f所示，通过蒸发源500开始对有机电致发光显示面板进行蒸镀。本专利技术提供的蒸镀装置及有机电致发光显示面板蒸镀方法，有效的避免了蒸镀过程中，基板在对位过程中由于自身重量而下垂，导致掩膜版与基板对位误差较大问题，提高产品良率。综上所述，虽然本专利技术已以较佳实施例披露如上，然其并非用以限定本专利技术，本领域的技术人员在不脱离本专利技术的精神和范围的前提下可做各种的更动与润饰，因此倘若本专利技术的这些修改和变型属于本专利技术权利要求及其等同技术的范围之内，则本专利技术也意图包含这些改动和变型在内。本专利技术的保护本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀装置，其特征在于，包括：主基板，辅助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：主基板，辅助基板，其中，所述主基板包括掩膜版吸附部。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述掩膜版至少部分由磁性金属构成，所述掩膜版吸附部包括电磁单元，所述电磁单元在电流的控制下可以产生磁场。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述辅助基板包括吸附装置，所述吸附装置包括真空掩膜版吸附装置或者磁力掩膜版吸附装置，所述磁力掩膜版吸附装置在电流的控制下可以产生磁场。4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述主基板包括真空吸附部，所述真空吸附部用于吸附蒸镀基板。5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述主基板设置有对位装置。6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，所述辅...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭建华，
申请(专利权)人：长春海谱润斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：吉林,22