基板及其制备方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:15726068 阅读:318 留言:0更新日期:2017-06-29 17:53
本公开提供一种基板,该基板包括:衬底基板;设置在所述衬底基板上的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定像素区域;设置在所述像素区域中的薄膜晶体管;依次设置在所述薄膜晶体管上的有机绝缘层和无机钝化层;所述有机绝缘层至少在与所述无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。本公开通过将有机绝缘层的至少与无机钝化层相接触的部分设置成凹凸不平的结构来增加无机钝化层与有机绝缘层的接触面积,从而释放了无机钝化层中易于导致裂纹的内应力,进而减少或者消除了无机钝化层脱落现象的发生。

【技术实现步骤摘要】
基板及其制备方法、显示面板和显示装置
本专利技术的实施例涉及一种基板及其制备方法、显示面板和显示装置。
技术介绍
在显示
,随着显示技术的发展以及人们对视觉感受的要求逐渐提高,高分辨率和低功耗的显示器件越来越受到人们的关注。通常,为了降低显示器件的功耗,在层叠设置的电极之间、电极线之间或者电极与电极线之间设置有有机绝缘层。有机绝缘层的引入可以增大电极之间、电极线之间或者电极与电极线之间的距离,从而可以减小寄生电容,进而可以降低显示器件的功耗。通常,在有机绝缘层的表面还需要再设置一层无机钝化层,以进一步地降低功耗,以及防止暴露的金属线或者金属电极被氧化。
技术实现思路
本专利技术至少一实施例提供一种基板,该基板包括衬底基板;设置在所述衬底基板上的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定像素区域;设置在所述像素区域中的薄膜晶体管;依次设置在所述薄膜晶体管上的有机绝缘层和无机钝化层;所述有机绝缘层至少在与所述无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述凹凸不平的结构包括至少一个凹面结构。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述有机绝缘层中设置有用于电连接的过孔结构,所述有机绝缘层至少在所述过孔结构的周边区域中与所述无机钝化层相接触的部分设置有所述凹面结构。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述凹面结构至少分布在距离所述过孔结构的预设距离内。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述凹面结构在所述有机绝缘层的表面呈均匀分布。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,距离所述过孔结构越远,所述凹面结构的密集程度越大。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,距离所述过孔结构越远,所述凹面结构的横截面积越大。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述有机绝缘层的厚度为1~3μm,所述过孔结构贯穿所述有机绝缘层,所述凹面结构在垂直于所述衬底基板的方向上的尺寸与所述过孔结构在垂直于所述衬底基板的方向上的尺寸之比为1/4~1/2。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述凹面结构的纵截面形状包括半圆形、半椭圆形、矩形和梯形中的至少之一。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,在所述有机绝缘层和所述无机钝化层之间形成有第一电极,所述第一电极通过所述过孔结构与所述薄膜晶体管的漏极电连接。例如,在本专利技术至少一实施例提供的基板中,所述有机绝缘层的材料包括聚酰亚胺、四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯基醚共聚物、丙烯酸树脂或者聚对苯二甲酸乙二醇酯中的一种或多种。本专利技术至少一实施例提供的基板,还包括:设置在所述无机钝化层上的第二电极,其中,所述第一电极为像素电极,所述第二电极为公共电极。本专利技术至少一实施例还提供一种显示面板,包括上述任一项基板。本专利技术至少一实施例还提供一种显示装置,包括上述任一项显示面板。本专利技术至少一实施例还提供一种基板的制备方法,该制备方法包括:提供衬底基板;在所述衬底基板上形成栅线和数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定像素区域;在所述像素区域中形成薄膜晶体管;在所述薄膜晶体管上依次形成有机绝缘层和无机钝化层;其中,所述有机绝缘层至少在与所述无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。本公开通过将有机绝缘层的至少与无机钝化层相接触的部分设置成凹凸不平的结构来增加无机钝化层与有机绝缘层的接触面积,从而释放了无机钝化层中易于导致裂纹的内应力,进而减少或者消除了无机钝化层脱落现象的发生。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅涉及本专利技术的一些实施例,而非对本专利技术的限制。图1为一种膜层脱落的扫描电镜图;图2为本专利技术一实施例提供的一种基板的平面结构示意图;图3为本专利技术一实施例提供的一种基板的截面结构示意图;图4为本专利技术一实施例提供的一种有机绝缘层和无机钝化层的透视结构示意图;图5为图4所示结构沿A-B切割后的截面结构示意图;图6为本专利技术再一实施例提供的一种有机绝缘层和无机钝化层的透视结构示意图;图7为图6所示结构沿A-B切割后的截面结构示意图;图8为本专利技术又一实施例提供的一种有机绝缘层和无机钝化层的透视结构示意图;图9为图8所示结构沿A-B切割后的截面结构示意图;图10为本专利技术一实施例提供的一种显示面板的截面结构示意图;图11为本专利技术一实施例提供的一种显示装置的框图;图12为本专利技术一实施例提供的一种基板的制备方法的流程图。附图标记:01-基板;2-漏极;3-源极;4-有源层;5-栅绝缘层;6-栅极;7-衬底基板;8-第二电极;9-第一电极;10-无机钝化层;11-有机绝缘层;12-过孔结构;13-栅线;14-数据线;15-像素区域;16-薄膜晶体管;17-凹面结构;20-显示面板;21-对置基板;22-液晶分子;30-显示装置。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例的附图,对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。除非另外定义,本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。在制备显示器件的过程中,为了降低显示器件的功耗、提高显示器件的分辨率,往往会在层叠设置的电极之间、电极线之间或者电极与电极线之间设置有机绝缘层,以增大电极之间、电极线之间或者电极与电极线之间的距离,从而减小寄生电容,进而降低显示器件的功耗。在有机绝缘层的表面还可以再设置一层无机钝化层,以进一步地降低功耗,以及防止暴露在外的金属线或者金属电极被氧化。然而,在形成有机绝缘层后,在后续的高温处理过程中,有机绝缘层中的溶剂会挥发出来,从而形成在其上的无机钝化层容易从有机绝缘层上脱落,进而导致显示器件显示不良。本公开的专利技术人发现无机钝化层脱落的区域往往不在过孔结构处,而是在过孔结构的周边,例如,图1为一种膜层脱落的扫描电镜图,如图所示,在过孔结构之间的无机钝化层和形成在无机钝化层上的电极层脱落相对更严重,可以通过改变过孔结构周边有机绝缘层的结构来减少无机钝化层脱落现象的发生。本专利技术至少一实施例提供一种基板,该基板包括:衬底基板;设置在衬底基板上的栅线和数据线,该栅线和数据线交叉限定像素区域;设置在像素区域中的薄膜晶体管;依次设置在薄膜晶体管上的有机绝缘层和无机钝化层;该有机绝缘层至少在与无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。本公开通过将有机绝缘层的至少与无机钝化层相接触的部分设置成凹凸不平的结构来本文档来自技高网...
基板及其制备方法、显示面板和显示装置

【技术保护点】
一种基板,包括:衬底基板;设置在所述衬底基板上的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定像素区域;设置在所述像素区域中的薄膜晶体管;依次设置在所述薄膜晶体管上的有机绝缘层和无机钝化层;所述有机绝缘层至少在与所述无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。

【技术特征摘要】
1.一种基板,包括:衬底基板;设置在所述衬底基板上的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线交叉限定像素区域;设置在所述像素区域中的薄膜晶体管;依次设置在所述薄膜晶体管上的有机绝缘层和无机钝化层;所述有机绝缘层至少在与所述无机钝化层相接触的部分设置有凹凸不平的结构。2.根据权利要求1所述的基板,其中,所述凹凸不平的结构包括至少一个凹面结构。3.根据权利要求2所述的基板,其中,所述有机绝缘层中设置有用于电连接的过孔结构,所述有机绝缘层至少在所述过孔结构的周边区域中与所述无机钝化层相接触的部分设置有所述凹面结构。4.根据权利要求3所述的基板,其中,所述凹面结构至少分布在距离所述过孔结构的预设距离内。5.根据权利要求4所述的基板,其中,所述凹面结构在所述有机绝缘层的表面均匀分布。6.根据权利要求4所述的基板,其中,距离所述过孔结构越远,所述凹面结构的密集程度越大。7.根据权利要求4所述的基板,其中,距离所述过孔结构越远,所述凹面结构的横截面积越大。8.根据权利要求2-7中任一项所述的基板,其中,所述过孔结构贯穿所述有机绝缘层,所述凹面结构在垂直于所述衬底基板的方向上的尺寸与所述过孔结构在垂直...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵娜邓立赟
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1