一种激光蒸发镀膜装置制造方法及图纸

一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：包括一真空反应腔；一基板架；一CO2激光器；一He-Ne激光器；一分束镜，位于真空反应腔外并呈45度角设于CO2激光器与He-Ne激光器所发出的激光束的相交位置处；一聚焦凸透镜；一散焦凹透镜；一钳锅，用以盛放待蒸发材料；以及一反射镜，设位于所述钳锅上方，用以将所述激光器发出的激光在由外而内依次经过分束镜、聚焦凸透镜、散焦凹透镜和窗口后，反射至所述钳锅内，对钳锅内的待蒸发材料进行激光加热蒸发，从而在基板架上的基材或基片表面气相沉积出含有所述待蒸发材料的膜层。本实用新型专利技术结构简单，可对高熔点金属材料进行非接触式加热使其蒸发而实现激光蒸发镀膜，且不会污染真空反应腔体。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

: 本技术涉及一种激光蒸发镀膜装置。技术背景:传统的蒸发镀膜装置，采用接触式加热，会污染真空腔体。另外，其加热熔点较低，无法对高熔点金属材料进行加热使其蒸发。故有必要对现有技术作出改进，以提供一种激光蒸发镀膜装置，实现非接触式加热，且不会污染真空反应腔体。
技术实现思路
:本技术的目的在于提供一种激光蒸发镀膜装置，其结构简单，可对高熔点金属材料进行非接触式加热使其蒸发而实现激光蒸发镀膜，且不会污染真空反应腔体。一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于:包括一真空反应腔，该真空反应腔的侧壁密封设有一窗口 ；一基板架，设于真空反应腔内，用以放置待镀膜基板或基片；— CO2激光器,位于真空反应腔外并水平设置,其激光横向发射并与所述窗口相对；—He-Ne激光器,位于真空反应腔外并垂直设置,其激光纵向发射；一分束镜，位于真空反应腔外并呈45度角设于CO2激光器与He-Ne激光器所发出的激光束的相交位置处；—聚焦凸透镜，设于分束镜与窗口之间的光路上；一散焦凹透镜，设于聚焦凸透镜与窗口之间的光路上；一钳锅，设于真空反应腔内并位于基板架的下方，用以盛放待蒸发材料；以及一反射镜，设于真空反应腔内，并位于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光蒸发镀膜装置，其特征在于：包括一真空反应腔，该真空反应腔的侧壁密封设有一窗口；一基板架，设于真空反应腔内，用以放置待镀膜基板或基片；一CO2激光器，位于真空反应腔外并水平设置，其激光横向发射并与所述窗口相对；一He?Ne激光器，位于真空反应腔外并垂直设置，其激光纵向发射；一分束镜，位于真空反应腔外并呈45度角设于CO2激光器与He?Ne激光器所发出的激光束的相交位置处；一聚焦凸透镜，设于分束镜与窗口之间的光路上；一散焦凹透镜，设于聚焦凸透镜与窗口之间的光路上；一钳锅，设于真空反应腔内并位于基板架的下方，用以盛放待蒸发材料；以及一反射镜，设于真空反应腔内，并位于所述激光器、分束镜、聚焦凸...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：粟婷，杨柳，刘昕，
申请(专利权)人：中山市创科科研技术服务有限公司，
类型：实用新型
国别省市：