【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于减少ITO溅射损伤衬底的溅射设备，所述溅射设备的溅射腔室中包括用以设置基板的基板连接结构和用以设置靶材的靶材连接结构，其特征在于，所述靶材连接结构使连接于所述靶材连接结构上的靶材位于所述基板连接结构侧方，且与所述基板连接结构上连接的基板成预设角度，并使所述靶材与基板之间留有空隙；所述靶材连接结构包括负电位发生装置，所述负电位发生装置产生并施加负电位于连接于所述靶材连接结构的靶材上；所述设备的溅射腔室中还包括与所述靶材连接结构上的靶材平行设置的阳极板，所述阳极板用以与所述靶材共同形成位于所述阳极板与所述靶材之间的电场。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：储培鸣，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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