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本发明公开了一种用于减少ITO溅射损伤衬底的溅射设备及其方法，属于一种溅射设备，溅射设备的溅射腔室中包括用以设置基板的基板连接结构和用以设置靶材的靶材连接结构，其中，靶材连接结构使连接于靶材连接结构上的靶材位于基板连接结构侧方，且与基板连接...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

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