硅化合物、缩合物和使用了其的抗蚀剂组合物、以及使用其的图案形成方法技术

本发明专利技术提供一种硅化合物、缩合物和使用了其的抗蚀剂组合物、以及使用其的图案形成方法。本发明专利技术提供一种硅化合物，其使用烷氧基硅烷等水解性的硅化合物作为原料，能够简便地合成，同一分子内具有烷氧基等水解性基团和通过高能量射线的照射而解离并产生酸的光产酸基团。一种硅化合物，其由通式(1)表示，式(1)中，R1分别独立地为氢原子、碳原子数1~20的直链状的烃基、碳原子数3~20的支链或环状的烃基，该烃基的碳原子也可以被氧原子置换，还可以包含氟原子。A为酸分解性基团，B为水解基团，n为0~2的整数，m为1~3的整数，n+m为1~3的整数。R1nAmSiB4-(n+m)????(1)。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅化合物，其由通式(1)表示：R1nAmSiB4?(n+m)????(1)式(1)中，R1分别独立地为氢原子、碳原子数1~20的直链状的烃基、碳原子数3~20的支链或环状的烃基，该烃基的碳原子也可以被氧原子置换，还可以包含氟原子，A为酸分解性基团，B为水解基团，n为0~2的整数，m为1~3的整数，n+m为1~3的整数。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山中一广，小川毅，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：