The present invention provides a glass polishing liquid alkaline acidic conditions, which is characterized in that the effective components of the polishing solution for rare earth oxides, as well as an organic and / or inorganic buffer solution, the polishing solution to keep the pH in the between 8 and 5. The polishing liquid is used for polishing silicon oxide compounds and other oxides or semiconductors or conductors, glass products, monocrystalline silicon surfaces, and insulating oxide layers produced by chips.
【技术实现步骤摘要】
微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用
本专利技术涉及一种抛光液以及生产工艺，特别是用于加工如玻璃制品的抛光液以及应用。
技术介绍
当前玻璃加工企业生产中所使用的抛光液主要是在碱性条件下，以大颗粒氧化铈粉做抛光摩擦剂，表面活性中心少，分散稳定性差，总体抛光速率低，更有甚者，容易导致严重的表面划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率，造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。同时由于目前市场上广泛应用的多为碱性硅酸钠玻璃，采用微酸性玻璃抛光液虽然开始抛光效率非常高，但碱性玻璃在抛光过程中释放碱性硅酸钠，在玻璃稀土抛光液循环使用过程中，导致抛光液pH随抛光时间的延长不断升高，失去抛光效率。
技术实现思路
本专利技术目的在于专利技术一种接近稀土表面零电位，与硅酸盐表面亲和性好，分散稳定性好、平化抛光效率高、抛光表面划伤低，不损伤抛光机的微酸性玻璃抛光液。技术方案为：微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和/或无机缓冲液，使抛光液保持pH在5-8之间。在其中一些具体实施例中，优选的，所述抛光液PH在5.5-6.5之间...
【技术保护点】
微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：抛光液的有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和/或无机缓冲液，使抛光液保持pH在5‑8之间。
【技术特征摘要】
1.微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：抛光液的有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和/或无机缓冲液，使抛光液保持pH在5-8之间。2.根据权利要求1中所述的微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：所述抛光液PH在5.5-6.5之间。3.根据权利要求1中所述的微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：缓冲液占抛光液的总重量的0.001％～10％。4.根据权利要求1中所述的微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：所述稀土氧化物优选氧化铈。5.根据权利要求1所述微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：所述无机缓冲液选自无机酸、无机酸盐，优选磷酸、磷酸盐、硼酸、硼酸盐中的一种。6.根据权利要求1所述微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：所述有机缓冲液选自有机酸、有机羧酸盐，优选有机...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙韬，李佳铌，
申请(专利权)人：宁波日晟新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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