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本发明提供一种微酸性条件下的碱性玻璃抛光液，其特征在于：抛光液的有效成份为稀土氧化物，以及一种有机和/或无机缓冲液，使抛光液保持pH在5‑8之间。该抛光液用于含硅化合物以及其它各种氧化物或半导体或导体、玻璃制品、单晶硅表面、芯片生产的绝缘氧...
该专利属于宁波日晟新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波日晟新材料有限公司授权不得商用。

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