硅类化合物抛光加速剂的制备方法技术

硅类化合物抛光加速剂的制备方法，涉及含硅化合物的抛光技术领域。本发明专利技术将多官能团有机聚合物加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；将多聚硅酸氧化物悬浮液分散在水中，制成多聚硅酸氧化物悬浮液；将表面活性剂加入制成的悬浮液中，调整混合悬浮液的pH为5～9；将混合悬浮液升温至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。本发明专利技术工艺简单合理，制成的产品悬浮性强，不宜沉积，分散稳定性好，在玻璃以及含硅化合物抛光时，抛光效果稳定，切削率高，抛光粉用量少，表面缺陷低，抛光无划痕，可有效提高平化抛光效率，且不易造成对抛光机的损伤。

【技术实现步骤摘要】
硅类化合物抛光加速剂的制备方法
本专利技术涉及含硅化合物的抛光

技术介绍
当前玻璃以及含硅化合物抛光主要以大颗粒稀土氧化物粉做抛光摩擦剂，总体抛光速率低，分散稳定性差，容易导致严重的表面划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率，造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。同时，现在抛光工艺所用抛光粉固含量高，难于清洗，固体废料量大，对环境污染与处理造成很大负担。
技术实现思路
本专利技术目的在于专利技术一种分散稳定性好、抛光效率高、降低对稀有的硅类化合物抛光加速剂的制备方法。本专利技术包括以下步骤：1）将多官能团有机聚合物加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；2）将多聚硅酸氧化物悬浮液分散在水中，制成多聚硅酸氧化物悬浮液；3）将表面活性剂加入制成的悬浮液中，调整混合悬浮液的pH为5～9；4）将混合悬浮液升温至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。本专利技术工艺简单合理，制成的产品悬浮性强，不宜沉积，分散稳定性好，在玻璃以及含硅化合物抛光时，抛光效果稳定，切削率高，抛光粉用量少，表面缺陷低，抛光无划痕，可有效提高平化抛光效率，且不易造成对抛光机的损伤。步骤1）中多聚硅酸氧化物与水的质量比为1︰3～50。步骤2）中多官能团有机聚合物与水的质量比为1︰0.1～20。具体实施方式1、制备方法：称取100克辛基酸或其他饱和、非饱和羧酸，400克聚丙烷醚醇，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入2000克摩尔比2.1的多聚硅酸盐（如水玻璃Na2O.nSiO2或K2O.nSiO2），搅匀。再加入300克癸烷聚环氧乙烷磷酸酯，采用磷酸调节pH值至9。将以上混合悬浮液温度升至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。2、应用：1）在4500克水中加入250克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入250克市场上购买的抛光粉，搅匀，既可使用。将所制样品在LogitechCDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.01微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。2）在4250克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入375克市场上购买的抛光粉，搅匀，既可使用。将所制样品在LogitechCDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.23微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。3）在4125克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入500克市场上购买的抛光粉，搅匀，既可使用。将所制样品在LogitechCDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.20微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。比较实验：500克市场上购买的抛光粉加入4500克水中，搅匀。将所制样品在LogitechCDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.00微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。本文档来自技高网...

【技术保护点】
硅类化合物抛光加速剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）将多官能团有机聚合物加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；2）将多聚硅酸氧化物悬浮液分散在水中，制成多聚硅酸氧化物悬浮液；3）将表面活性剂加入制成的悬浮液中，调整混合悬浮液的pH为5～9；4）将混合悬浮液升温至 20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。

【技术特征摘要】
1.硅类化合物抛光加速剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）将多官能团有机聚合物加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；2）将多聚硅酸氧化物悬浮液分散在水中，制成多聚硅酸氧化物悬浮液；3）将表面活性剂加入制成的悬浮液中，调整混合悬浮液的pH为5～9；4）将混合悬...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙寿涛，
申请(专利权)人：孙寿涛，
类型：发明
国别省市：江苏,32