【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上设有进槽口，所述漂洗槽上设有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽内均设有用于输送硅片的输送辊轮组，所述输送辊轮组的上方和下方分别设有用于喷射清洗硅片的多个上喷头和下喷头，所述清洗槽与漂洗槽之间设有过渡槽口和隔板。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李川川，
申请(专利权)人：常州市万阳光伏有限公司，
类型：发明
国别省市：
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