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本发明公开了一种硅片清洗装置，包括：清洗槽和漂洗槽，所述清洗槽上设有进槽口，所述漂洗槽上设有出槽口，所述清洗槽和漂洗槽内均设有用于输送硅片的输送辊轮组，所述输送辊轮组的上方和下方分别设有用于喷射清洗硅片的多个上喷头和下喷头，所述清洗槽与漂洗...
该专利属于常州市万阳光伏有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州市万阳光伏有限公司授权不得商用。

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