等离子处理装置制造方法及图纸

一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，所述等离子体发生组件包括：等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；微波等离子激励源，与所述电极模组电连接；气体输送管道，自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔。上述等离子处理装置，气流在等离子体发生腔内流动时，侧壁阻挡而转向，进入真空腔体。在该过程中流速减慢，电离更充分；并流形成紊流，使气流中的等离子体混合均匀。气体经所述等离子体发生组件，形成均匀的等离子气体，对产品进行等离子处理，处理效果好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面处理设备领域，特别是涉及一种等离子处理装置。
技术介绍
等离子体又叫做电浆，是由电子、离子等带电粒子以及中性粒(原子、分子、微料等)组成的，宏观上呈现准中性，且具有集体效应的混合气体。目前，等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面活化、改性等场合。通过其处理,能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。一般的等离子处理设备当中，气流在电极之间流动时，产生的等离子气体不均匀，导致进行等离子体处理时，也会产生不均匀的问题。而且气体在两片电极之间只能部分电离，产生等离子体的效率较低，也导致进行等离子体处理的效率降低。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种等离子体分布均匀、等离子处理效率高的等离子处理装置。一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，所述等离子体发生组件包括:等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；微波等离子激励源，与所述电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，其特征在于，所述等离子体发生组件包括：等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；微波等离子激励源，与所述电极模组电连接；气体输送管道，自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵芝强，
申请(专利权)人：珠海宝丰堂电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44