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一种等离子处理装置,包括真空腔体和等离子体发生组件,所述等离子体发生组件包括:等离子体发生腔,开设于所述真空腔体腔壁;电极模组,设置于所述等离子体发生腔内,所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部,所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组...该专利属于珠海宝丰堂电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过珠海宝丰堂电子科技有限公司授权不得商用。
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一种等离子处理装置,包括真空腔体和等离子体发生组件,所述等离子体发生组件包括:等离子体发生腔,开设于所述真空腔体腔壁;电极模组,设置于所述等离子体发生腔内,所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部,所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组...