晶片加工方法技术

本发明专利技术提供一种晶片加工方法，在不使晶片破损的前提下比以往时间短且廉价地将晶片薄化至预定厚度。其为将在外周具有倒角部的晶片薄化至预定厚度的晶片加工方法，其特征在于具备：层叠晶片形成步骤，将晶片的表面贴附于支承基板上以形成层叠晶片；倒角部除去步骤，将切削刀具定位于所述晶片的表面侧的外周侧面，并从在所述层叠晶片形成步骤形成的层叠晶片的外周侧向中心切入，将从所述晶片的表面至所述预定厚度的倒角部除去，所述切削刀具具有与所述层叠晶片的层叠方向平行的旋转轴线；以及薄化步骤，在所述倒角部除去步骤实施后，对所述层叠晶片的所述晶片的背面侧进行磨削以将晶片薄化至预定厚度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及将形成于晶片的外周部的倒角部除去以使晶片薄化至预定厚度的。
技术介绍
半导体晶片在表面形成大量的IC (Integrated Circuit,集成电路)、LSI (LargeScale Integration,大规模集成电路)等器件,且ー个一个的器件由分割预定线(间隔道)划分开，在将所述半导体晶片通过磨削装置对背面进行磨削而加工至预定的厚度后，通过切削装置(切割装置)对分割预定线进行切削来分割出一个ー个的器件，分割成的器件被广泛应用于手机、个人电脑等各种电子产品中。对晶片背面进行磨削的磨削装置具备:卡盘工作台，其用于保持晶片；及磨削单元，其以能够旋转的方式装配有磨削轮，所述磨削轮具有磨削磨具，所述磨削磨具用于对保持在卡盘工作台上的晶片进行磨削，该磨削装置能够将晶片高精度地磨削至预定的厚度。在晶片的磨削时，为了保护在表面形成的器件而在晶片的表面贴附表面保护带，之后利用磨削装置对晶片的背面进行磨削。不过，若通过磨削将晶片的厚度薄化至例如数十Pm左右吋，由于表面保护带的刚性无法对晶片平稳地保持，会整体地发生挠曲而成为不稳定状态，因而存在对磨削及后续的晶片处理产生阻碍的问题。为了使通过磨削而薄化了的晶片的处理变得容易，在日本特开2000-158334号公报记载了下述方法:在将晶片的表面侧贴附在具有刚性的支承基板后，对晶片的背面进行磨削。一般来说，在半导体晶片的外周形成有从表面到背面的圆弧状的倒角部，在对晶片背面进行磨削而使晶片薄化后，在倒角`部残存有由圆弧面与磨削面形成的尖刃(檐状)，既危险又会在外周部分产生缺损，从而存在器件的品质下降、晶片破损的问题。为解决此问题，日本特开2000-173961号公报公开了下述半导体装置的制造方法:使形成于半导体晶片的外周的倒角部在与平坦部的交界部分的表面形成切ロ后，进行晶片的背面磨削直到晶片的板厚变得比切ロ深度薄。专利文献1:日本特开2000-158334号公报专利文献2:日本特开2000-173961号公报然而，如专利文献2公开的半导体装置的制造方法，在将晶片贴附在支承基板或表面保护带之前从晶片的表面侧对晶片的倒角部与平坦部的交界进行切削的话，存在切削屑落在晶片的表面并附着在器件的表面而造成品质下降的问题。特别是对于形成有多个CCD、CMOS等固体图像传感器的晶片，会造成固体图像传感器的成像性能下降的致命问题。为除去附着在表面的切削屑必须要进行过度的清洗。在将晶片贴附在支承基板后除去倒角部的情况下，由于需要除去从晶片的背面侧到表面的倒角部，因而加工耗费时间。并且，需要比倒角部的宽度厚的切削刀具，不仅切削刀具本身的费用升高，而且伴随着连续加工，切削刀具容易发生不均匀磨损，因而需要频繁更换切削刀具。另ー方面，在使用比倒角部的宽度薄的切削刀具的情况下，需要在晶片外周部进行多次圆形切削加工，存在生产性不佳的问题。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于以上各点而完成的，其目的在于提供一种，在不便晶片破损的前提下比以往时间短且廉价地将晶片薄化至预定厚度。根据本专利技术，提供一种，所述是将在外周具有倒角部的晶片薄化至预定厚度的，其特征在于，所述具备下述步骤:层叠晶片形成步骤，在该层叠晶片形成步骤中，将晶片的表面贴附于支承基板上而形成层叠晶片；倒角部除去步骤，在该倒角部除去步骤中，将切削刀具定位于在所述晶片的表面侧的外周侧面，从在所述层叠晶片形成步骤形成的层叠晶片的外周侧向中心切入，将从所述晶片的表面至预定厚度的倒角部除去，所述切削刀具具有与所述层叠晶片的层叠方向平行的旋转轴线；以及薄化步骤，在该薄化步骤中，在所述倒角部除去步骤实施后，对所述层叠晶片的所述晶片的背面侧进行磨削，将晶片薄化至预定厚度。优选的是，还具备保持步骤，在该保持步骤中，在所述倒角部除去步骤实施前，以切削装置的卡盘工作台对所述层叠晶片的靠所述支承基板的那ー侧进行保持，在所述倒角部除去步骤中，使具有与所述卡盘工作台的旋转轴线平行的旋转轴线的切削刀具定位于所述晶片的表面侧的外周侧面，从所述层叠晶片的外周侧向中心切入，使所述卡盘工作台至少旋转I周，从而将从所述晶片的表面至预定厚度的倒角部除去。本专利技术的包含倒角部除去步骤，在该倒角部除去步骤中，使切削刀具定位于由卡盘工作台保持的晶片的表面侧侧方，从层叠晶片的外周侧向中心切入，将从晶片的表面至预定厚度的倒角部除去，所以能够在晶片不破损的前提下比以往时间短且廉价地对晶片的背面进行磨削而将晶片薄化至预定厚度。附图说明图1是示出层叠晶片形成步骤的立体图。图2是示出在第一实施方式中的倒角部除去步骤中使具有预定厚度以上的厚度的切削刀具定位于晶片的表面侧的侧方的状态下的侧视图。图3是示出切削刀具从晶片的外周侧向中心切入状态的状态的倒角部除去步骤的侧视图。图4是示出使用未达到预定厚度的切削刀具的本专利技术第二实施方式的倒角部除去步骤的侧视图。图5是示出本专利技术第三实施方式的倒角部除去步骤的侧视图。图6是示出倒角部除去步骤后的层叠晶片的侧视图。图7是示出适合实施本专利技术的的磨削装置的立体图。图8是示出薄化步骤的侧视图。标号说明2:切削装置；4:卡盘工作台；6:切削单元；10:主轴；11:半导体晶片；14:切削刀具；22:磨削装置；23:支承基板；25:层叠晶片；30:磨削単元；44:磨削轮；48:磨削磨具；58:卡盘工作台。具体实施例方式下面，对本专利技术的实施方式參照附图进行详细说明。參照图1，示出的是层叠晶片形成步骤的立体图。半导体晶片11例如由厚度为700 iim的硅晶片构成，在表面Ila呈格子状地形成有多条分割预定线(间隔道)13，并且，在由多条分割预定线13划分的各区域形成1C、LSI等器件15。如此构成的半导体晶片11在表面的平坦部具有形成有器件15的器件区域17和围绕器件区域17的外周剰余区域19。而且，在半导体晶片11的外周形成有作为用于标示娃晶片的结晶方位的标记的缺ロ 21。根据本专利技术的，作为第I步骤实施层叠晶片形成步骤，在该层叠晶片形成步骤中，如图1所示在晶片11的表面Ila贴附作为保护部件的支承基板23以形成如图2所示的层叠晶片25。支承基板23可以采用例如硅晶片、玻璃基板等。由于在薄化步骤实施后要将支承基板23从晶片11剥离，因此，作为粘接剂优选使用例如经过热水浸泡粘力降低的热水湿润型粘接剂。在所述层叠晶片形成步骤中，不限于使用粘接剂进行贴附，也可以是，将晶片直接接合于支承基板上而形成SOI (Silicon On Insulator,娃绝缘体)晶片。在层叠晶片25形成后，如图2所示，实施保持步骤，在该保持步骤中，以切削装置2的卡盘工作台4对层叠晶片25的支承基板23侧进行吸附保持。在晶片11的外周形成从表面Ila到背面Ilb的圆弧状的倒角部12。标号6是切削装置2的切削単元，切削刀具14被固定在主轴10的末端部，所述主轴10以能够旋转的方式收纳于主轴箱8中。以使主轴10的轴心(旋转轴线)IOa与层叠晶片25的层叠方向平行的方式配置切削单元6，在本实施方式中，切削单元6与卡盘工作台4的旋转轴线4a平行。在实施由切削装置2的卡盘工作台4对层叠晶片25的支承基板23侧吸附保持的保持步骤后，将切削刀具14定位于晶片11的表面Ila侧的侧方，并且将切削刀具14定位于预定的高度位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶片加工方法，所述晶片加工方法为将在外周具有倒角部的晶片薄化至预定厚度的晶片加工方法，其特征在于，所述晶片加工方法具备：层叠晶片形成步骤，在该层叠晶片形成步骤中，将晶片的表面贴附于支承基板上以形成层叠晶片；倒角部除去步骤，在该倒角部除去步骤中，将切削刀具定位于所述晶片的表面侧的外周侧面，并从在所述层叠晶片形成步骤形成的层叠晶片的外周侧向中心切入，将从所述晶片的表面至所述预定厚度的倒角部除去，所述切削刀具具有与所述层叠晶片的层叠方向平行的旋转轴线；以及薄化步骤，在该薄化步骤中，在所述倒角部除去步骤实施后，对所述层叠晶片的所述晶片的背面侧进行磨削以将晶片薄化至预定厚度。

【技术特征摘要】
2011.11.08 JP 2011-2443211.一种晶片加工方法，所述晶片加工方法为将在外周具有倒角部的晶片薄化至预定厚度的晶片加工方法，其特征在于， 所述晶片加工方法具备: 层叠晶片形成步骤，在该层叠晶片形成步骤中，将晶片的表面贴附于支承基板上以形成层置晶片； 倒角部除去步骤，在该倒角部除去步骤中，将切削刀具定位于所述晶片的表面侧的外周侧面，并从在所述层叠晶片形成步骤形成的层叠晶片的外周侧向中心切入，将从所述晶片的表面至所述预定厚度的倒角部除去，所述切削刀具具有与所述层叠晶片的层叠方向平行的旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：卡尔·普利瓦西尔，
申请(专利权)人：株式会社迪思科，
类型：发明
国别省市：