【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种抛边装置，尤其是涉及一种光掩膜板抛边装置。
技术介绍
光掩膜板是半导体行业芯片光刻的基板。而光掩膜板的基板原先均由日本垄断生 产，其加工要求十分精密，除了玻璃基板的平面度、平行度、表面光洁度外，对外形的倒边抛 光要求更是难度高，劳动强度大，而且产能很低，阻碍了玻璃基板的加工。
技术实现思路
本专利技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种结构简单、设备 成本低的光掩膜板抛边装置。本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现一种光掩膜板抛边装置，其特征在于，包括电机、机座、机架、磨轮、靠模机构和支 撑结构，所述的机架固定在机座上，所述的靠模机构位于机架的一侧，所述的电机和磨轮固 定在机架另一侧的支撑结构上，所述的磨轮设在电机的正下方。所述的靠模机构包括靠模、靠模滑板、靠模滑轨，所述的靠模滑轨安装于机架的一 侧，所述的靠模滑板可滑动的水平安装在靠模滑轨上，所述的靠模安装在靠模滑板上。所述的靠模为90°靠模。所述的支撑结构包括滑板和滑轨，所述的滑板与滑轨水平滑动连接，所述的电机 和磨轮安装在滑板上。与现有技术相比，本专利技术通过靠模的方式来实现对产品的加工，结构简单，设备成 本低，操作简单，产品加工精度高。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细说明。如图1所不,一种光掩膜板抛边装置,包括机座1、机架2、电机3、磨轮4、靠模机构 5和支撑结构6。机架2固定在机座I上；靠模机构5位于机架2的一侧,包括靠模7、靠模 滑板8、靠模滑轨9，靠模滑轨9，靠模滑板8可滑动的水平安装在靠模滑轨9上...
【技术保护点】
一种光掩膜板抛边装置，其特征在于，包括电机、机座、机架、磨轮、靠模机构和支撑结构，所述的机架固定在机座上，所述的靠模机构位于机架的一侧，所述的电机和磨轮固定在机架另一侧的支撑结构上，所述的磨轮设在电机的正下方。
【技术特征摘要】
1.一种光掩膜板抛边装置，其特征在于，包括电机、机座、机架、磨轮、靠模机构和支撑结构，所述的机架固定在机座上，所述的靠模机构位于机架的一侧，所述的电机和磨轮固定在机架另一侧的支撑结构上，所述的磨轮设在电机的正下方。2.根据权利要求1所述的一种光掩膜板抛边装置，其特征在于，所述的靠模机构包括靠模、靠模滑板、靠模滑轨，所述的靠...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚建明，
申请(专利权)人：上海双明光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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