一种掩膜版清洁装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种掩膜版清洁装置，涉及掩膜版维护保养技术领域，能够去除掩膜版和支撑板上的灰尘或其他细小微粒。用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，包括相对设置的第一面板和第二面板，第一面板与第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间，且将第二面板设置于待清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作；在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口；至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口；在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及掩膜版维护保养
，尤其涉及一种掩膜版清洁装置。
技术介绍
TFT-LCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。薄膜晶体管-液晶显示器由阵列基板和彩膜基板对盒构成。在阵列基板和彩膜基板的工艺制程中，例如制作TFT的源极、漏极等均需要通过曝光刻蚀等构图工艺具体实现，光线透过掩膜版上预设的透光图案对置于掩膜版下方的基板上的待加工薄膜层进行刻蚀曝光，以在基板上形成特定的图案。掩膜版具有构图图案，随着屏幕PPI(PixelsPerInch,每英寸内拥有的像素数目)的增多，掩膜版上的构图图案区域精细化，在此情况下，当掩膜版的构图图案内一旦掉落和附着灰尘或其他细小微粒时，会使得掩膜版的品质容易受到影响，甚至导致通过掩膜版进行构图工艺制程的基板由于图案出错而返修或报废。如图1所示，掩膜版01在不使用时通常放置于四周设置有支撑架03的支撑板02上，以使得掩膜版01的掩膜图案悬空不与任何表面接触，降低碰撞损伤的可能性，并在掩膜版01上方加设盖板04，盖板04与支撑板02组成密封空间以减少掩膜版04受到外界灰尘或微粒污染的可能性。掩膜版01在使用前需要打开盖板04做清洁度检查，通过气枪吹落去除掩膜版01表面灰尘或微粒后，重新盖上盖板04密封，由推车运送至工作台后，由移动机械手将整个支撑板02和盖板04组成的密闭盒体抓取并放入曝光机内的密闭空间中，根据曝光机中设定的程序在曝光机内取出掩膜版01并使用进行掩膜曝光。由于掩膜版01下表面与支撑板02之间的空间较小，气枪无法去除支撑板02上沉积的灰尘或微粒，在曝光机内的密闭空间中拿取掩膜版01时，可能导致沉积在支撑板02上的灰尘或微粒在气流的带动下落在掩膜版01上，从而影响到待加工基板的掩膜曝光图案的精确性。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种掩膜版清洁装置，能够去除掩膜版和支撑板上的灰尘或其他细小微粒。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例的一方面提供一种掩膜版清洁装置，用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，包括相对设置的第一面板和第二面板，第一面板与第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间，且将第二面板设置于待清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作；在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口；至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口；在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。优选的，在第二面板背离第一面板的一侧以及第二面板靠近第一面板的一侧均设置有多个出气口。进一步的，本专利技术的掩膜版清洁装置还包括限位部，限位部为条状，限位部的固定端固定连接在掩膜版清洁装置上，限位端设置在第二面板靠近支撑板的一侧，用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板侧面相抵靠。进一步的，本专利技术的掩膜版清洁装置还包括固定部，固定部与限位部的限位端相连且与限位部相互垂直，固定部的上表面与支撑板的下表面位于同一水平面上，固定部用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板的下表面卡接固定。优选的，限位部和固定部为一体结构。优选的，第二面板靠近支撑板的一面设置有辅助运动件，辅助运动件用于在将掩膜版清洁装置放入清洁工位时，减小第二面板与支撑板之间相对移动的摩擦阻力。进一步的，辅助运动件包括多个滚动件。进一步的，滚动件包括滚动轴以及穿插在滚动轴上的滚柱，滚动轴的中心线与第二面板的下表面平行且与第二面板放入清洁工位的运动方向垂直。优选的，滚动件包括安装槽和设置在安装槽内的滚珠，安装槽的开口尺寸小于滚珠的直径。进一步的，当支撑板靠近待清洁掩膜版的一侧设置有与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行的轨道时，辅助运动件包括设置在第二面板靠近支撑板一侧的与轨道位置对应的滑块；或者，当支撑板靠近待清洁掩膜版的一侧设置有滑块时，辅助运动件包括设置在第二面板靠近支撑板一侧的与滑块位置对应的轨道，轨道的方向与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行。本专利技术提供一种掩膜版清洁装置，用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，包括相对设置的第一面板和第二面板，第一面板与第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间，且将第二面板设置于清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作；在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口；至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口；在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。清洁操作时，待清洁的掩膜版位于第一面板下方，第一面板靠近第二面板的一侧设置的多个出气口向待清洁的掩膜版的上表面吹送气体以去除待清洁的掩膜版的上表面的灰尘或微粒。同时，支撑板位于第二面板的下方，在第二面板背离第一面板的一侧设置的多个出气口向支撑板的上表面吹送气体，以去除支撑板的上表面的灰尘或微粒，提高掩膜版的表面清洁度，提升掩膜版的品质，提高制作的基板的良品率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的一种掩膜版的存放状态图；图2为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置的结构示意图；图3为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置在第二面板的上表面也设置有出气口的结构示意图；图4为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置设置有限位部的结构示意图；图5为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置设置有固定部的结构示意图；图6为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置设置有辅助运动件的结构示意图；图7为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置的辅助运动件为滑块的俯视图；图8为本专利技术提供的一种掩膜版清洁装置的俯视图；图9为图8中第二面板的仰视图；图10为本专利技术提供的另一种掩膜版清洁装置的俯视图；图11为图10中第二面板的仰视图。附图标记：01-掩膜版；011-透明基板；012-掩膜图案；013-透明薄膜层；02-支撑板；03-支撑架；04盖板；11-第一面板；12-第二面板；13-气源；131-第一控制阀；132-第二控制阀；14-限位部；15-固定部；16-辅助运动件；161-滚动件；1611-滚动轴；1612-滚柱；1613-安装槽；1614-滚珠；162-轨道；163-滑块；a-第一面板与第二面板之间的间隙；b-出气口；L-两侧支撑架的间距；W-第二面板的宽度。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供一种掩膜版清洁装置，如图2所示，用于对待清洁的掩膜版01以及放置掩膜版01的支撑板02进行清洁，包括相对设置的第一面板11和第二面板12，第一面板11与第二面板12之间具有间隙a，使用本专利技术的掩膜版清洁本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版清洁装置，用于对待清洁掩膜版以及放置所述待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，其特征在于，包括相对设置的第一面板和第二面板，所述第一面板与所述第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于所述第一面板与所述第二面板之间，且将所述第二面板设置于所述待清洁掩膜版与所述支撑板之间进行清洁操作；在所述第一面板靠近所述第二面板的一侧设置有多个出气口；至少在所述第二面板背离所述第一面板的一侧设置有多个出气口；在所述掩膜版清洁装置上还设置有与所述出气口相连接的气源。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版清洁装置，用于对待清洁掩膜版以及放置所述待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，其特征在于，包括相对设置的第一面板和第二面板，所述第一面板与所述第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于所述第一面板与所述第二面板之间，且将所述第二面板设置于所述待清洁掩膜版与所述支撑板之间进行清洁操作；在所述第一面板靠近所述第二面板的一侧设置有多个出气口；至少在所述第二面板背离所述第一面板的一侧设置有多个出气口；在所述掩膜版清洁装置上还设置有与所述出气口相连接的气源。2.根据权利要求1所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，在所述第二面板背离所述第一面板的一侧以及所述第二面板靠近所述第一面板的一侧均设置有多个出气口。3.根据权利要求1所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括限位部，所述限位部为条状，所述限位部的固定端固定连接在所述掩膜版清洁装置上，限位端设置在所述第二面板靠近所述支撑板的一侧，用于在所述的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与所述支撑板侧面相抵靠。4.根据权利要求3所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括固定部，所述固定部与所述限位部的限位端相连且与所述限位部相互垂直，所述固定部的上表面与所述支撑板的下表面位于同一水平面上，所述固定部用于在所述的掩膜版清洁装置放入所述清洁工位后与所述支撑板的下表面卡接固定。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳浩，张玉虎，王军帽，聂彬，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11