用于生产掩模版的辅助装置制造方法及图纸

一种用于生产掩模版的辅助装置，包括一硬质基板，其具有相对的一上表面和一下表面；该硬质基板的上表面凹设有一收容槽，用于搁置一掩模版；该硬质基板的上表面还凹设有至少一取放槽，该至少一取放槽与该收容槽连通，用于相对该收容槽取放该掩模版；该硬质基板还设有贯通该上表面与下表面的至少一通气孔，用于从该硬质基板的下表面一侧对搁置于该收容槽中的掩模版进行吸附。能够很好地解决小版厚度补偿定位问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及掩模版的制造工艺，尤其涉及到小版本掩模版的定位夹具。
技术介绍
掩膜板是一种由表面金属薄膜记载图形、文字等信息的玻璃载板。在掩膜板的制作过程中会用到光刻机，光刻机是一种能把电脑上已设计出的各种图形、文字等信息转移到掩模版上的生产设备。光刻机上设有曝光镜头，曝光镜头是光刻机上在生产过程中，对应设置在掩模版上方用于发出激光束或电子束或其它能量束的部件。曝光是光刻机根据各种图形、文字数据通过曝光镜头向掩模版发射激光束或电子束或其它能量束从而实现信息转移的过程。在掩膜板的制作过程中，光刻机的可曝光范围，即在掩模版生产过程中光刻机内载物平台上掩模版与曝光镜头之间的距离，通常在2mm?15mm之间。现有的这种掩膜板与光刻机的配合关系，在生产厚度小于2mm的掩模版时，需要在载物平台与掩模版之间加垫几张无尘纸从而减小掩模版与曝光镜头之间的距离使之达到可曝光的范围。这种加垫几张无尘纸的解决办法存在一些缺陷:加垫过多无尘纸会使得载物平台对掩模版的吸附力降低可能导致曝光时掩模版滑动；无尘纸上的细小颗粒与纤维会吸附在掩模版背面增加掩模版出现缺陷的概率与清洗难度；如果无尘纸翘起会阻碍曝光镜头运动从而导致曝光失败。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提出一种用于生产掩模版的辅助装置，能够很好地解决小版厚度补偿定位问题。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种用于生产掩模版的辅助装置，包括一硬质基板，其具有相对的一上表面和一下表面；该硬质基板的上表面凹设有一收容槽，用于搁置一掩模版；该硬质基板的上表面还凹设有至少一取放槽，该至少一取放槽与该收容槽连通，用于相对该收容槽取放该掩模版；该硬质基板还设有贯通该上表面与下表面的至少一通气孔，用于从该硬质基板的下表面一侧对搁置于该收容槽中的掩模版进行吸附。在一些实施例中，该收容槽的槽底设有一第一吸气槽，该第一吸气槽与该至少一通气孔连通。在一些实施例中，该第一吸气槽包括一第一直线段和与该第一直线段相交的一第二直线段，其中，该第二直线段与第一直线段的交点对应于该收容槽的中心点；该至少一通气孔对应设置在该第一吸气槽的第一直线段与第二直线段上。在一些实施例中，该第一直线段与第二直线段垂直相交；该第一吸气槽还包括至少一圆周段，这些圆周段是以该中心点为圆心并与该第一直线段及第二直线段连通的。在一些实施例中，该硬质基板的下表面凹设有一第二吸气槽，该第二吸气槽与该至少一通气孔连通。在一些实施例中，该第二吸气槽包括一第三直线段和与该第三直线段相交的一第四直线段，其中，该第三直线段与该第一直线段平行，该第四直线段与该第二直线段平行。在一些实施例中，该第三直线段与第四直线段垂直相交；该第二吸气槽还包括至少一圆周段，这些圆周段是以该中心点为圆心并与该第三直线段及第四直线段连通的。在一些实施例中，该收容槽呈矩形状，该硬质基板的上表面还在对应于该收容槽的四个角上凹设有至少一倒角槽，用于适配该掩模版。在一些实施例中，该掩模版的厚度小于2mm。在一些实施例中，该硬质基板的厚度范围为3?12mm。本技术的有益效果在于，通过在硬质基板上形成收容槽、取放槽以及吸气孔，能够很好地解决小版厚度补偿定位问题。【附图说明】下面将结合附图及实施例对本技术作进一步说明，附图中:图1为本技术用于生产掩模版的辅助装置的立体图。图2为本技术用于生产掩模版的辅助装置的俯视图。图3为本技术用于生产掩模版的辅助装置的仰视图。图4为本技术用于生产掩模版的辅助装置的应用示意。【具体实施方式】现结合附图，对本技术的较佳实施例作详细说明。参见图1至图4，图1为本技术用于生产掩模版的辅助装置的立体图。图2为本技术用于生产掩模版的辅助装置的俯视图。图3为本技术用于生产掩模版的辅助装置的仰视图。图4为本技术用于生产掩模版的辅助装置的应用示意。本技术提供一种用于生产掩模版的辅助装置1，包括一硬质基板11，其具有相对的一上表面和一下表面。该硬质基板11的上表面凹设有一收容槽12，用于搁置一掩模版2。在本实施例中，该掩模版的厚度小于2mm。该硬质基板的厚度范围为3?12mm。该硬质基板11的上表面凹设有两个取放槽13，取放槽13与收容槽12连通，用于相对该收容槽12取放该掩模版2。该收容槽12呈矩形状，该硬质基板11的上表面还在对应于该收容槽12的四个角上凹设有四个倒角槽14，用于适配该掩模版2的不同形状的倒角，例如:圆形倒角或方向倒角。该硬质基板11设有贯通该上表面与下表面的多个通气孔15，用于从该硬质基板11的下表面一侧对搁置于该收容槽12中的掩模版2进行吸附。该硬质基板11在该收容槽12的槽底设有一第一吸气槽16，该第一吸气槽16与这些通气孔15连通。该硬质基板11的下表面凹设有一第二吸气槽17，该第二吸气槽17与这些通气孔15连通。该第一吸气槽16包括一第一直线段161、与该第一直线段161相交的一第二直线段162、一第一圆周段163以及一第二圆周段164。其中，该第二直线段162与第一直线段161的交点对应于该收容槽12的中心点。这些通气孔16对应设置在该第一直线段161与第二直线段162上。在本实施例中，该第一直线段161与第二直线段162垂直相交。这些圆周段163、164是以该中心点为圆心并与该第一直线段161及第二直线段162连通的。这种吸气槽结构，有利于提供较好的吸附效果。类似地，该第二吸气槽17包括一第三直线段171、与该第三直线段171相交的一第四直线段172、一第三圆周段173、一第四圆周段174以及一第五圆周段175。其中，该第三直线段171与该第一直线段161平行，该第四直线段172与该第二直线段162平行。这些圆周段173、174、175是以该中心点为圆心并与该第三直线段171及第四直线段172连通的。这种吸气槽结构，有利于提供较好的吸附效果。参见图4，在实际应用中，通过将该用于生产掩模版的辅助装置I搁置在光刻机内的载物平台3上，通过将掩模版2搁置到收容槽12中，并通过从下方吸气，可以使掩模版2固定牢靠，进而可以很好补偿掩模版2与曝光镜头4之间的间距。本技术的有益效果在于，通过在硬质基板11上形成收容槽12、取放槽13、倒角槽14、吸气孔15、第一吸气槽16以及第二吸气槽17，促使厚度小于2mm的掩模版能够被光刻机正常生产；可以消除因无尘纸对掩模版遭成的污染而带来的缺陷与清洗困难；可以消除因加垫过多无尘纸或无尘纸翘起导致的曝光失败。应当理解的是，以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制，对本领域技术人员来说，可以对上述实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部技术特征进行等同替换；而这些修改和替换，都应属于本技术所附权利要求的保护范围。【主权项】1.一种用于生产掩模版的辅助装置，其特征在于，包括一硬质基板，其具有相对的一上表面和一下表面；该硬质基板的上表面凹设有一收容槽，用于搁置一掩模版；该硬质基板的上表面还凹设有至少一取放槽，该至少一取放槽与该收容槽连通，用于相对该收容槽取放该掩模版；该硬质基板还设有贯通该上表面与下表面的至少一通气孔，用于从该硬质基板的下表面一侧对搁置于该收容槽中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于生产掩模版的辅助装置，其特征在于，包括一硬质基板，其具有相对的一上表面和一下表面；该硬质基板的上表面凹设有一收容槽，用于搁置一掩模版；该硬质基板的上表面还凹设有至少一取放槽，该至少一取放槽与该收容槽连通，用于相对该收容槽取放该掩模版；该硬质基板还设有贯通该上表面与下表面的至少一通气孔，用于从该硬质基板的下表面一侧对搁置于该收容槽中的掩模版进行吸附。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄执祥，
申请(专利权)人：深圳市龙图光电有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44