一种洁净室用晶片清洗工作台制造技术

一种洁净室用晶片清洗工作台，涉及空气净化装置领域，尤其是一种洁净室用晶片清洗工作台，该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部为工作区域，下部是一个支撑台。本实用新型专利技术的一种洁净室用晶片清洗工作台，设计科学，使用方便，把清洗窗口、甩干窗口及验片窗口整合在同一操作台上，实现了在及时排出清洗晶片产生的有害气体的同时，减少了晶片再次受到沾污的机会，大大提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及空气净化装置领域，尤其是一种洁净室用晶片清洗工作台。
技术介绍
半导体器件的性能、稳定性和电路的成品率受衬底表面化学沾污和微粒沾污影响最大，因此对衬底表面进行有效的清洗非常重要。在晶片清洗过程中，需要创建和维持超清洁的条件，严格地控制清洁环境，避免晶片再次受到沾污。目前洁净室里用的晶片清洗台大都是普通通风柜，晶片容易受到污染，难于保持高洁净度的表面，严重影响了企业的生产效率。
技术实现思路
本技术所要解决的就是目前普通通风柜不能避免晶片受到沾污，影响衬底清洁度的问题，提供一种洁净室用晶片清洗工作台。一种洁净室用晶片清洗工作台，其特征在于该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部为工作区域，下部是一个支撑台；其中：空气循环系统包括高效过滤器、静压箱、风机和抽风管，高效过滤器顶端设置静压箱，静压箱顶部开口处设置有风机，静压箱后侧中央设置抽风管；工作区域分为操作区和流通区，操作区包括矩形横杆、垂直隔板和操作窗口，矩形横杆底端安装操作窗口，操作窗口通过两块垂直隔板分隔为清洗窗口、甩干窗口及验片窗口，清洗窗口中设置有清洗槽，清洗槽里设置摆放台面，摆放台面底部设置支撑脚，甩干窗口和验片窗口中设置载物隔板，流通区由前挡板、水平隔板、导流板、斜向导流板、背板和盖板构成，载物隔板和导流板设置通风圆孔。所述的抽风管上安装手动阀门。所述的甩干窗口正面设置塑钢窗，塑钢窗通过合页固定在矩形横杆上。所述的垂直隔板底端设置矩形通道。本技术的一种洁净室用晶片清洗工作台，设计科学，使用方便，把清洗窗口、甩干窗口及验片窗口整合在同一操作台上，实现了在及时排出清洗晶片产生的有害气体的同时，减少了晶片再次受到沾污的机会，大大提高了生产效率。附图说明图1为本技术的俯视图；图2为本技术的侧视图；图3为本技术的正视图；图4为本技术侧视图的剖视图；图5为本技术架体俯视图的剖视图；图6为本技术的正面剖视图。其中，1支撑脚，2风机，3静压箱，4抽风管，5手动阀门，6盖板，7侧板，8矩形横杆，9背板，10高效过滤器，11垂直隔板，12通风圆孔，13清洗窗口，14甩干窗口，15验片窗口，16塑钢窗，17导流板，18合页，19斜向导流板，20操作窗口，21前挡板，22载物隔板，23水平隔板，24矩形通道、25摆放台面、26清洗槽。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。实施例1：一种洁净室用晶片清洗工作台，该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分,上部为空气循环系统，中部为工作区域，下部是一个支撑台；其中：空气循环系统包括高效过滤器10、静压箱3、风机2和抽风管4，高效过滤器10顶端设置静压箱3，静压箱3顶部开口处设置有风机2，静压箱3后侧中央设置抽风管4，抽风管4上安装手动阀门5，方便控制抽风管4进行抽风；工作区域分为操作区和流通区，操作区包括矩形横杆8、垂直隔板11和操作窗口20，矩形横杆8底端安装操作窗口20，操作窗口20通过两块垂直隔板11分隔为清洗窗口13、甩干窗口14及验片窗口15，垂直隔板11底端设置矩形通道24，方便传送晶片，清洗窗口13中设置有清洗槽26，清洗槽26里设置摆放台面25，摆放台面25底部设置支撑脚1，甩干窗口14和验片窗口15中设置载物隔板22，方便在甩干和验片的过程中摆放晶片，甩干窗口14正面设置塑钢窗16，塑钢窗16通过合页18固定在矩形横杆8上，流通区由前挡板21、水平隔板23、导流板17、斜向导流板19、背板9和盖板6构成，载物隔板22和导流板17设置通风圆孔12，保证清洗工作台通风良好。清洗晶片时，洁净室内空气首先由风机2压入上静压箱3中，然后经过高效空气过滤器10吹出高洁净空气流经清洗窗口13、甩干窗口14及验片窗口15，打开手动阀门5，清洗窗口13中的高洁净空气和有害气体经导流板17上的通风圆孔12由抽风管4排出洁净室外，同时，甩干窗口14和验片窗口15中的高洁净空气经载物隔板22和导流板17上的通风圆孔12由抽风管4排出洁净室外，在空气流通良好的环境下将晶片依次通过清洗窗口13、甩干窗口14和验片窗口15进行清洗、甩干及验片，方便有效的进行晶片的清洁工作。以上仅为本技术的一种实施方式，只要使用了以上所述的结构，均应落入本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种洁净室用晶片清洗工作台，其特征在于该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部分为工作区域，下部分是一个支撑台；其中：空气循环系统包括高效过滤器（10）、静压箱（3）、风机（2）和抽风管（4），高效过滤器（10）顶端设置静压箱（3），静压箱（3）顶部开口处设置有风机（2），静压箱（3）后侧中央设置抽风管（4）；工作区域分为操作区和流通区，操作区包括矩形横杆（8）、垂直隔板（11）和操作窗口（20），矩形横杆（8）底端安装操作窗口（20），操作窗口（20）通过两块垂直隔板（11）分隔为清洗窗口（13）、甩干窗口（14）及验片窗口（15），清洗窗口（13）中设置有清洗槽（26），清洗槽（26）里设置摆放台面（25），摆放台面（25）底部设置支撑脚（1），甩干窗口（14）和验片窗口（15）中设置载物隔板（22），流通区由前挡板（21）、水平隔板（23）、导流板（17）、斜向导流板（19）、背板（9）和盖板（6）构成，载物隔板（22）和导流板（17）设置通风圆孔（12）。

【技术特征摘要】
1.一种洁净室用晶片清洗工作台，其特征在于该工作台是一个柜体，该柜体分为上中下三个部分，上部为空气循环系统，中部分为工作区域，下部分是一个支撑台；其中：空气循环系统包括高效过滤器（10）、静压箱（3）、风机（2）和抽风管（4），高效过滤器（10）顶端设置静压箱（3），静压箱（3）顶部开口处设置有风机（2），静压箱（3）后侧中央设置抽风管（4）；工作区域分为操作区和流通区，操作区包括矩形横杆（8）、垂直隔板（11）和操作窗口（20），矩形横杆（8）底端安装操作窗口（20），操作窗口（20）通过两块垂直隔板（11）分隔为清洗窗口（13）、甩干窗口（14）及验片窗口（15），清洗窗口（13）中设置有清洗槽（26），清洗槽（26）里设置摆...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖祥江，李苏滨，惠峰，李雪峰，柳廷龙，李武芳，周一，杨海超，候振海，囤国超，田东，
申请(专利权)人：云南中科鑫圆晶体材料有限公司，昆明云锗高新技术有限公司，云南鑫耀半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：云南;53