【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及,属于芯片设计领域。
技术介绍
芯片的制作是晶圆厂通过逐个使用不同的掩膜版在硅片上进行光刻、氧化、离子注入、刻蚀等工艺制造而成的。它主要分为前道工艺和后道工艺。前道工艺主要是制作器件,后道工艺是金属线互连。用于制造芯片的掩膜版是依据芯片版图设计者提供的版图数据文件制作的而成的。芯片版图设计者在设计版图时,需要晶圆厂提供的一系列的设计文件。在这些文件中,晶圆厂根据自己的工艺情况,会提供不同的层给芯片版图设计时使用,版图设计者通过使用这些层进行版图设计,最后得到芯片版图。版图设计者所使用的层中,某一层或某几层的组合被用于制作掩膜版。而某些层并不用于制作掩膜版,它们在版图设计过程中或用于进行版图的各种检查验证;或用于寄生数据的提取;或用于信号线的标示等。通常芯片在制作完成后,会对芯片进行测试,根据测试结果对芯片进行改进或优化。这就需要改进或优化芯片的版图设计,重新制作芯片再测试验证、优化或改进芯片。直至所生产的芯片达到要求为止。在这个不断改进或优化芯片的设计过程中必然会得到不同版本的版图和版图所对应的芯片。现有技术中不同版本版图中使用的层无任何区别,这样会导致在不同版图和芯片中很难对不同版本版图进行区分。通常为了在新改进或优化的版图中找出与更改前旧版本版图的区别,需要使用专门的分析工具对新旧版本的版图的数据进行分析比较才能得到,但该做法费时费力。
技术实现思路
本专利技术提供,主要解决了现有芯片的版图设计以及在最后制造的芯片中,不能识别芯片不同版本中新添加图形或需要使用专门的分析工具的问题。本专利技术的具体技术解决方案如下该可识别芯片添加图形的方法, ...
【技术保护点】
一种可识别芯片添加图形的方法,其特征在于,包括以下步骤:?1]建立芯片原始版本版图的金属层;?2]进行第一版添加,在版图中对第一版添加的金属层进行区别于原金属层的标记;?3]进行第二版添加,在版图中对第二版添加的金属层进行区别于原金属层及第一版添加的金属层的标记;若需进行第三版至第N版的添加,则重复该步骤并确保新添加的金属层与在先添加的金属层标记均不同,N为大于3的自然数。
【技术特征摘要】
1.一种可识别芯片添加图形的方法,其特征在于,包括以下步骤 1]建立芯片原始版本版图的金属层; 2]进行第一版添加,在版图中对第一版添加的金属层进行区别于原金属层的标记; 3]进行第二版添加,在版图中对第二版添加的金属层进行区别于原金属层及第一版添加的金属层的标记;若需进行第三版至第N版的添加,则重复该步骤并确保新添加的金属层与在先添加的金属层标记均不同,N为大于3的自然数。2.根据权利要求1所述的可识别芯片添加图形的方法,...
【专利技术属性】
技术研发人员:李晓骏,
申请(专利权)人:西安华芯半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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