一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法技术

本发明专利技术涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明专利技术将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，尤其是一种通过全流程工艺控制，降低基板表面缺陷密度，提高激光薄膜元件激光损伤阈值的清洗方法，属于光学

技术介绍
激光薄膜是高功率激光系统中的关键元件，它的性能优劣很大程度上决定了激光的输出性能。激光薄膜也是高功率激光系统中的薄弱环节，其损伤阈值的高低直接决定了激光输出的强弱，并危及强激光系统的稳定运行。改进激光薄膜的性能，提高激光薄膜的损伤阈值一直是激光和薄膜领域内的重要内容。影响薄膜最终损伤阈值的因素众多，从基板的加工和清洗，到膜系的设计和制备以及后续的激光预处理等。而基板清洗作为高功率激光薄膜制备的首要工序将直接决定元件的最终抗激光损伤能力。一般抛光后的基板表面污染物主要包括有机污染(蜡、树脂、油等加工中所使用的化学物品)、固体颗粒污染(灰尘，研磨、抛光粉)、可溶性污染(指印、水印、人体污染)等。污染的来源可能是研磨、抛光过程残留的抛光粉末、包装运输和贮藏过程中引入的污染、操作人员操作不当产生的污染。基片上的这些残留污染物将大幅度降低基底和薄膜界面对高功率激光的承受能力；并且在后续的薄膜镀制过程中残留物容易产生诸如节瘤这样的薄膜缺陷，在这些缺陷处激光与本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，其特征在于具体步骤如下：?（1）用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在80W白炽灯照射下光学基板表面无肉眼可见的颗粒、指印及油迹为止；（2）将擦拭后的光学基板置于第一清洗槽的碱性溶液中，所述碱性溶液配比为NH4OH：H2O2：H2O的体积比为1:10:50，分别用20KHz、80KHz、120KHz的频率对光学基板先后进行2～4分钟的超声清洗，超声结束后以5mm/s速度将光学基板提拉出碱性溶液；(3)将步骤(2)所得的光学基板放置于第二清洗槽的去离子水中，漂洗；(4)将步骤(3)所得的光学基板放置于第三清洗槽的去离子水中，分别在20KHz、80KHz、120...

【技术特征摘要】
1.一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，其特征在于具体步骤如下(1)用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在80W白炽灯照射下光学基板表面无肉眼可见的颗粒、指印及油迹为止；(2)将擦拭后的光学基板置于第一清洗槽的碱性溶液中，所述碱性溶液配比为NH4OH H2O2 =H2O的体积比为1:10:50，分别用20KHz、80KHz、120KHz的频率对光学基板先后进行 2 4分钟的超声清洗，超声结束后以5mm/s速度将光学基板提拉出碱性溶液；(3)将步骤(2)所得的光学基板放置于第二清洗槽的去离子水中，漂洗；(4)将步骤(3)所得的光学基板放置于第三清洗槽的去离子水中，分别在20KHz、 80KHzU20KHz频率下先后...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁涛，谢雨江，张锦龙，程鑫彬，焦宏飞，沈正祥，马彬，王占山，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：