一种光学薄膜制造技术

本发明专利技术公开了一种光学薄膜，其包设置在表面的保护薄膜，为聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜，TAC薄膜，厚50μm；偏振片，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜，其材质为降冰片烯类薄膜；还包括设置在下偏振片保护薄膜的外表面的金属涂层，金属涂层为铜涂层或银涂层，厚度为25μm；并且，在所述的保护薄膜与上偏振片保护薄膜之间，上偏振片保护薄膜与偏振片之间。本发明专利技术将偏振片的加热温度加热至树脂的玻化温度以上，通过将偏振片加热至玻化温度以上，具有能够显著降低切割时的裂缝、毛刺的产生这样的效果；通过在各层之间增加隔离层，防护偏振片产生裂缝及毛刺，整体性能稳定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜
，尤其涉及一种光学薄膜。
技术介绍
光学薄膜由于体积轻薄，因此近年来被广泛地应用于各种电子产品，尤其光学薄膜于按压时所产生的声响极小，尤适用于各种装置的按键或键盘。传统的光学薄膜通常具有上下两层薄膜，且上下两层薄膜各具有一个或多个导电体，当使用者施力使上下两层薄膜相互靠近时，则上下两层的薄膜的导电体将会互相接触进而电性导通。然而，现今的光学薄膜很少具备供光特性，使得操作者操作不便。现有技术中，光学薄膜沿其拉伸方向易产生裂纹，并且，在利用粘接剂等将多片偏振片的薄膜层叠而构成的光学薄膜中，存在因切割导致层彼此易剥离。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对上述现有技术的不足，本专利技术提出了一种光学薄膜。本专利技术提出的一种光学薄膜，其包设置在表面的保护薄膜，为聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜，TAC薄膜，厚50μm；偏振片，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜，其材质为降冰片烯类薄膜；还包括设置在下偏振片保护薄膜的外表面的金属涂层，金属涂层为铜涂层或银涂层，厚度为25μm；并且，在所述的保护薄膜与上偏振片保护薄膜之间，上偏振片保护薄膜与偏振片之间，偏振片与下偏振片保护薄膜之间分别设置厚度在5-10um的隔离层。进一步地，所述的隔离层为聚乙烯醇，其聚合浓度为2000-5000。进一步地，所述的偏振片为PVA薄膜在加热至50℃以上拉伸制得；其中，在所述的偏振片加热至45℃时，在所述的偏振片的上下层分别涂抹聚乙烯醇，持续加热至50℃以上，在将该偏振片加热至偏振片的温度比气氛温度高的状态下利用刀具进行切割。进一步地，所述的上偏振片保护薄膜、下偏振片保护薄膜的上下面分别设置上述的隔离层，分别将上偏振片保护薄膜、下偏振片保护薄膜加热至55℃以上，聚乙烯醇作为隔离层分别涂覆在上偏振片保护薄膜、下偏振片保护薄膜。进一步地，在最外层的保护膜以及金属涂层均与隔离层通过加热贴合，其中，所述的金属涂层通过两端的金属片穿过下偏振片保护薄膜及一隔离层，紧贴偏振片。本专利技术中有益效果：1.本专利技术将偏振片的加热温度加热至树脂的玻化温度以上，通过将偏振片加热至玻化温度以上，具有能够显著降低切割时的裂缝、毛刺的产生这样的效果；通过在各层之间增加隔离层，防护偏振片产生裂缝及毛刺，整体性能稳定。本专利技术采用通过加热贴合的方式将各层粘接在一起，减少了生产工序，降低了工艺难度，大幅节省了生产成本，节约的成本约为传统光学薄膜的50％，增强了光学薄膜整体的安全性和精确性，还提升了光学薄膜整体的美观度，设计新颖，易于推广使用。2.本专利技术能够抑制裂缝、毛刺的产生，在层叠薄膜的光学薄膜中防止层叠体的剥离，而且制造切割精度良好。附图说明图1为本专利技术提出的一种光学薄膜的结构示意图。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术作进一步的详细说明，但并不构成对本专利技术的任何限制。请参阅图1所示，本专利技术实施例的一种光学薄膜，其包设置在表面的保护薄膜1，在本实施例为聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜2，TAC薄膜，厚50μm；偏振片23，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜4，其材质为降冰片烯类薄膜。还包括设置在下偏振片保护薄膜4的外表面的金属涂层5，金属涂层5为铜涂层或银涂层，厚度为25μm。并且，在所述的保护薄膜1与上偏振片保护薄膜2之间，上偏振片保护薄膜2与偏振片23之间，偏振片23与下偏振片保护薄膜4之间分别设置厚度在5-10um的隔离层，在本实施例中，所述的隔离层为聚乙烯醇，其聚合浓度为2000-5000，使用水解度为80～100摩尔％程度的物质。在本专利技术实施例中，所述的偏振片23为PVA薄膜在加热至50℃以上拉伸制得；其中，在所述的偏振片23加热至45℃时，在所述的偏振片23的上下层分别涂抹聚乙烯醇，持续加热至50℃以上，在将该偏振片加热至偏振片的温度比气氛温度高的状态下利用刀具进行切割，从而能够抑制在切割该偏振片时的切割端面产生裂缝、毛刺，并且，光学薄膜为包含该偏振片的层叠体的情况下，能够防止层彼此的剥离，并且，在其上涂抹聚乙烯醇，能够上下挤压的方式抑制偏振片在横向和纵向方向上的张力，避免产生裂缝及毛刺。在具体的切割偏振片时，使用在周缘部具有刀刃的圆形状的旋转刀，通过使该旋转刀在与光学薄膜坯料的上表面平行的方向上移动而切割该光学薄膜坯料的方法；使用在下端具有刀刃的剪断刀，通过使该剪断刀相对于光学薄膜坯料垂直地上下移动而切割该光学薄膜坯料的方法等。作为偏振片的加热所使用的加热方法，只要能够将该偏振片加热至规定的温度即可，例如，使光学薄膜坯料接触被加热的基座、辊子而进行加热的方法，对该光学薄膜坯料吹送热风、蒸气而进行加热的方法，或者使用红外线加热、激光加热、等离子加热、近红外线加热、高频加热等公知的加热手段对该光学薄膜坯料进行加热的方法。在本专利技术实施例中，所述的上偏振片保护薄膜2、下偏振片保护薄膜4的上下面分别设置上述的隔离层，分别将上偏振片保护薄膜2、下偏振片保护薄膜4加热至55℃以上，聚乙烯醇作为隔离层分别涂覆在上偏振片保护薄膜2、下偏振片保护薄膜4，两者结合。聚乙烯醇类薄膜作为亲水性聚合物膜，可通过其衍生物替代，乙烯、丙烯等的石蜡、丙烯酸、异丁烯酸、巴豆酸等的不饱和羧酸及其被酯烷基、丙烯酰胺等变性后的物质。在本专利技术实施例中，在最外层的保护膜以及金属涂层5均与隔离层通过加热贴合，其中，所述的金属涂层5通过两端的金属片穿过下偏振片保护薄膜4及一隔离层，紧贴偏振片23。实施例一光学薄膜包括设置在表面的聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜2，TAC薄膜，厚50μm；偏振片23，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜4，其材质为降冰片烯类薄膜；设置在下偏振片保护薄膜4的外表面的金属涂层5，金属涂层5为铜涂层厚度为25μm。在所述的保护薄膜1与上偏振片保护薄膜2之间，上偏振片保护薄膜2与偏振片23之间，偏振片23与下偏振片保护薄膜4之间分别设置厚度在5um的隔离层，聚乙烯醇聚合浓度为2000，使用水解度为80摩尔％程度的物质。所述的偏振片23为PVA薄膜在加热至50℃拉伸制得；在所述的偏振片23加热至45℃时，在所述的偏振片23的上下层分别涂抹聚乙烯醇，持续加热至50℃以上切割完成。实施例二光学薄膜包括设置在表面的聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜2，TAC薄膜，厚50μm；偏振片23，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜4，其材质为降冰片烯类薄膜；设置在下偏振片保护薄膜4的外表面的金属涂层5，金属涂层5为铝，涂层厚度为25μm。在所述的保护薄膜1与上偏振片保护薄膜2之间，上偏振片保护薄膜2与偏振片23之间，偏振片23与下偏振片保护薄膜4之间分别设置厚度在5um的隔离层，聚乙烯醇聚合浓度为5000，使用水解度为100摩尔％程度的物质。所述的偏振片23为PVA薄膜在加热至50℃拉伸制得；在所述的偏振片23加热至45℃时，在所述的偏振片23的上下层分别涂抹聚乙烯醇，持续加热至50℃以上切割完成。实施例三光学薄膜包括设置在表面的聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜2，TAC薄膜，厚50μm；偏振片23，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜，其特征在于，其包设置在表面的保护薄膜，为聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜，TAC薄膜，厚50μm；偏振片，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜，其材质为降冰片烯类薄膜；还包括设置在下偏振片保护薄膜的外表面的金属涂层，金属涂层为铜涂层或银涂层，厚度为25μm；并且，在所述的保护薄膜与上偏振片保护薄膜之间，上偏振片保护薄膜与偏振片之间，偏振片与下偏振片保护薄膜之间分别设置厚度在5‑10um的隔离层。

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜，其特征在于，其包设置在表面的保护薄膜，为聚乙烯类薄膜，厚54μm；上偏振片保护薄膜，TAC薄膜，厚50μm；偏振片，PVA薄膜，玻化温度45℃，厚24μm；下偏振片保护薄膜，其材质为降冰片烯类薄膜；还包括设置在下偏振片保护薄膜的外表面的金属涂层，金属涂层为铜涂层或银涂层，厚度为25μm；并且，在所述的保护薄膜与上偏振片保护薄膜之间，上偏振片保护薄膜与偏振片之间，偏振片与下偏振片保护薄膜之间分别设置厚度在5-10um的隔离层。2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其特征在于，所述的隔离层为聚乙烯醇，其聚合浓度为2000-5000。3.根据权利要求2所述的光学薄膜，其特征在于，所述的偏振片为PVA...

【专利技术属性】
技术研发人员：张志云，
申请(专利权)人：西安科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61