一种硅料清洗装置组制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅料清洗装置组，本实用新型专利技术包括冲淋清洗机，所述冲淋清洗机的四周分别设有酸性清洗机、酸性浸泡机、碱性清洗机和超声清洗机；所述酸性清洗机位于酸性浸泡机的对面，所述碱性清洗机位于超声清洗机的对面。用本实用新型专利技术行星硅原料清洗时，根据硅原料表面的不同，按照不同的流程对硅原料进行清洗。从上述工作过程可知，用本实用新型专利技术进行硅原料的清洗，既能够进行实时监控，又能保证硅原料的清洗质量，还能减少硅原料的损耗，节省成本、提高效率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光电领域，具体涉及一种硅料清洗装置组。
技术介绍
光电领域中，硅是非常重要和常用的半导体原料，是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物，必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。但是目前生产操作中，由于很多硅料的清洗设备采用酸洗、碱洗、水冲洗和超声清洗为一体的封闭式操作，所以无法实施监控，必须要等硅原料清洗程序结束后，才能观察到硅料的清洗情况；硅原料通过这种方法清洗时一般只能按照酸洗、冲洗、碱洗、冲洗、超声洗的流程进行清洗，但原料表面的杂质组分不同，机械地按照基本流程进行清洗原料，不仅费时费力，而且还造成了原料的不必要浪费，降低了生产效率。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种硅料清洗装置组，将硅原料的清洗按照原料表面杂质的不同进行不同的清洗流程。本技术所采取的技术方案是一种灵活清洗硅料的装置组，包括冲淋清洗机，所述冲淋清洗机的四周分别设有酸性清洗机、酸性浸泡机、碱性清洗机和超声清洗机。本技术进一步改进方案是，所述酸性清洗机位于酸性浸泡机的对面，所述碱性清洗机位于超声清洗机的对面。本技术更进一步改进方案是，所述冲淋清洗机的型号本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅料清洗装置组，其特征在于：包括冲淋清洗机（1），所述冲淋清洗机（1）的四周分别设有酸性清洗机（2）、酸性浸泡机（3）、碱性清洗机（4）和超声清洗机（5）。

【技术特征摘要】
1.一种硅料清洗装置组，其特征在于包括冲淋清洗机(1)，所述冲淋清洗机(I)的四周分别设有酸性清洗机(2)、酸性浸泡机(3)、碱性清洗机(4)和超声清洗机(5)。2.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述酸性清洗机(2)位于酸性浸泡机(3)的对面，所述碱性清洗机(4)位于超声清洗机(5)的对面。3.如权利要求1所述的一种硅料清洗装置组，其特征在于所述冲淋清洗机(I)的型号为SGPR-05硅料清洗机。4.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：张凌松，
申请(专利权)人：宿迁宇龙光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：