【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光电领域,具体涉及一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机。
技术介绍
光电领域中,硅是非常重要和常用的半导体原料,是太阳能电池最理想的原材料。制备硅片的原料表面一般都会有杂质和一些氧化物,必须要经过清洗后才能进入后续工序使用。由于硅原料的表面状况不一,许多表面没有杂质或氧化物的原料经常因为没有被及时筛选出,而同样进行酸洗,造成原料的浪费,增加了生产成本。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足,提供一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,使表面没有杂质或氧化物的硅原料经过冲洗后直接进行超声清洗。本技术所采取的技术方案是一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体,所述箱体依次设有控制箱、清洗水槽和水箱,所述清洗水槽上方分别设有盖板,所述清洗水槽分为超声清洗水槽和冲淋清洗水槽。本技术进一步改进方案是,所述冲淋清洗水槽的底面中心纵向设有排水槽。本技术更进一步改进方案是,所述排水槽上固定有漏水板,所述漏水板的表面均匀分布有漏水孔。本技术更进一步改进方案是,所述冲淋清洗水槽内的底面上放置有支撑架,冲淋清洗水槽的左右两侧面顶部分别对称固定有冲淋水管。本技术更 ...
【技术保护点】
一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体(5),所述箱体(5)依次设有控制箱(2)、清洗水槽(1)和水箱(3),所述清洗水槽(1)上方分别设有盖板(4),其特征在于:所述清洗水槽(1)分为超声清洗水槽(1’’)和冲淋清洗水槽(1’)。
【技术特征摘要】
1.一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,包括箱体(5),所述箱体(5)依次设有控制箱(2)、清洗水槽(I)和水箱(3),所述清洗水槽(I)上方分别设有盖板(4),其特征在于所述清洗水槽(I)分为超声清洗水槽(I ’ ’)和冲淋清洗水槽(I ’)。2.如权利要求1所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述冲淋清洗水槽(I’)的底面中心纵向设有排水槽(9)。3.如权利要求2所述的一种带有冲淋清洗水槽的硅料超声清洗机,其特征在于所述排水槽(9)上固定有漏水板(6),所述漏水板(6)的表面均匀分布有漏水孔(12)。4.如权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:张凌松,
申请(专利权)人:宿迁宇龙光电科技有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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