本实用新型专利技术公开了一种硅料清洗装置，包括机架，机架上设置有清洗槽，在清洗槽上方的机架上设置有储酸槽和储水槽，清洗槽下方的机架上还设置有酸液回收槽，所述的储酸槽与清洗槽之间、储水槽与清洗槽之间以及酸液回收槽与清洗槽之间分别设置有排液管，上述的排液管上均设置有阀门；所述的酸液回收槽与储酸槽之间设置有连接管道和液流泵；所述的机架顶部设置有抽风口，抽风口下方的机架上设置有引风机。本实用新型专利技术的有益效果：结构简单，有效减少酸液与人体的接触，并及时将酸洗时带来的刺激性气体排出，减少了对人体的危害，大大提高了操作的安全性。本实用新型专利技术能广泛应用于硅料的清洗设备中。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅料的清洗装置。
技术介绍
硅料是一种非常重要的半导体材料，可用于制作二极管、三极管、发光器件、压敏元件、太阳能电池片等多种元器件，广泛应用于无线电工程、自动化领域、信号设备、动力工程等领域。通常硅料表面有氧化层和金属离子，需用酸清洗来去除其表面的氧化层和金属离子，目前硅料的清洗装置，其结构主要包括机架，机架上并排设置有酸洗槽和水洗槽。清洗时工人站在操作台前将硅片放入酸洗槽中，待酸洗完毕，工人再将酸洗槽中的硅料取出并放入水洗槽中清洗。此过程中人体直接与酸液接触，酸液具有腐蚀性，酸洗槽中容易溅出酸液伤害人体，而且清洗时酸液中会产生大量的刺激性的浓烟，直接危害到操作台前工人的身体健康，操作危险性较高。
技术实现思路
本技术所需解决的技术问题是将提供一种有效避免工人与酸液直接接触， 有效提高操作安全性的硅料清洗装置。为解决上述问题，本技术采用的技术方案是硅料清洗装置，包括机架，机架上设置有清洗槽，在清洗槽上方的机架上设置有储酸槽和储水槽，清洗槽下方的机架上还设置有酸液回收槽，所述的储酸槽与清洗槽之间、储水槽与清洗槽之间以及酸液回收槽与清洗槽之间分别设置有排液管，上述的排液管上均设置有阀门；所述的酸液回收槽与储酸槽之间设置有连接管道和液流泵；所述的机架顶部设置有抽风口，抽风口下方的机架上设置有引风机。前述的硅料清洗装置，其中，所述的储水槽上还设置有进水管。前述的硅料清洗装置，其中，所述的清洗槽上还设置有排水管，所述的排水管上设置有阀门。本技术的有益效果结构简单，有效减少酸液与人体的接触，并及时将酸洗时带来的刺激性气体排出，减少了对人体的危害，大大提高了操作的安全性。本技术能广泛应用于硅料的清洗设备中。附图说明图1是本技术所述的硅料清洗装置的示意图。图2是本技术所述的硅料清洗装置的工作原理示意图。图1 图2中1、机架，2、清洗槽，3、储酸槽，4、储水槽，41、进水管，5、酸液回收槽， 6、第一排液管，61、第一阀门，7、第二排液管，71、第二阀门，8、第三排液管，81、第三阀门， 9、液流泵，10、引风机，11、排水管，111、第四阀门，12、抽风口。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步的详细说明。如图1所示，硅料清洗装置，包括机架1，机架1上设置有清洗槽2，在清洗槽2上方的机架1上设置有储酸槽3和储水槽4，清洗槽2下方的机架1上还设置有酸液回收槽 5，所述的储酸槽3与清洗槽2之间设置有第一排液管6，第一排液管上设置有第一阀门61 ； 储水槽4与清洗槽2之间设置有第二排液管7，第二排液管7上设置有第二阀门71 ；酸液回收槽5与清洗槽2之间设置有第三排液管8，第三排液管8上设置有第三阀门81 ；所述的酸液回收槽5与储酸槽3之间设置有连接管道液流泵9 ；所述的机架1的顶部设置有抽风口 12，抽风口 12下方的机架1上设置有引风机10。所述的储水槽4上还设置有进水管41，所述的清洗槽2上还设置有排水管11，所述的排水管11上设置有第四阀门111。清洗硅料时，工人先在空的清洗槽2中放入硅料，然后将第一阀门61打开，酸液从储酸槽3中沿着第一排液管6缓缓进入到清洗槽2中，待清洗槽2中酸液至清洗槽2中清洗液面位置后关闭第一阀门61，硅料即在酸液中清洗，此时产生的刺激性气体会由引风机 10从机架1顶部的抽风口 12排出，待清洗完毕，打开第三阀门81，清洗槽2中的酸液顺着第三排液管8进入到酸液回收槽5中，液流泵9不断将酸液回收槽5中的酸液抽送回储酸槽4中，待清洗槽2中的酸液全部排至酸液回收槽5中后，关闭第三阀门81，同时打开第二阀门71，储水槽4中的水顺着第二排液管7进入到清洗槽2中，待水至清洗液面位置后关闭第二阀门71，由于储水槽4上设置有进水管41，故可通过进水管41对储水槽进行补水，待水洗完毕后，打开第四阀门111，水顺着排水管11排出，则完成一次硅料清洗。可以将上述各个阀门的控制开关集中装在机架上，这样操作人员向清洗槽中加完硅料后可以离开清洗槽一段距离，便于操作人员操作和避免可能对人体造成的伤害。本技术的有益效果结构简单，有效减少酸液与人体的接触，并及时将酸洗时带来的刺激性气体排出，减少了对人体的危害，大大提高了操作的安全性。本技术能广泛应用于硅料的清洗设备中。权利要求1.硅料清洗装置，包括机架，机架上设置有清洗槽，其特征在于在清洗槽上方的机架上设置有储酸槽和储水槽，清洗槽下方的机架上还设置有酸液回收槽，所述的储酸槽与清洗槽之间、储水槽与清洗槽之间以及酸液回收槽与清洗槽之间分别设置有排液管，上述的排液管上均设置有阀门；所述的酸液回收槽与储酸槽之间设置有连接管道和液流泵；所述的机架的顶部设置有抽风口，抽风口下方的机架上设置有引风机。2.根据权利要求1所述的硅料清洗装置，其特征在于所述的储水槽上还设置有进水管。3.根据权利要求1或2所述的硅料清洗装置，其特征在于所述的清洗槽上还设置有排水管，所述的排水管上设置有阀门。专利摘要本技术公开了一种硅料清洗装置，包括机架，机架上设置有清洗槽，在清洗槽上方的机架上设置有储酸槽和储水槽，清洗槽下方的机架上还设置有酸液回收槽，所述的储酸槽与清洗槽之间、储水槽与清洗槽之间以及酸液回收槽与清洗槽之间分别设置有排液管，上述的排液管上均设置有阀门；所述的酸液回收槽与储酸槽之间设置有连接管道和液流泵；所述的机架顶部设置有抽风口，抽风口下方的机架上设置有引风机。本技术的有益效果结构简单，有效减少酸液与人体的接触，并及时将酸洗时带来的刺激性气体排出，减少了对人体的危害，大大提高了操作的安全性。本技术能广泛应用于硅料的清洗设备中。文档编号B08B3/08GK202155331SQ20112024230公开日2012年3月7日 申请日期2011年7月11日 优先权日2011年7月11日专利技术者陶国伟 申请人:苏州赤诚洗净科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．硅料清洗装置，包括机架，机架上设置有清洗槽，其特征在于：在清洗槽上方的机架上设置有储酸槽和储水槽，清洗槽下方的机架上还设置有酸液回收槽，所述的储酸槽与清洗槽之间、储水槽与清洗槽之间以及酸液回收槽与清洗槽之间分别设置有排液管，上述的排液管上均设置有阀门；所述的酸液回收槽与储酸槽之间设置有连接管道和液流泵；所述的机架的顶部设置有抽风口，抽风口下方的机架上设置有引风机。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陶国伟，
申请(专利权)人：苏州赤诚洗净科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32
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