硅料清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种硅料清洗方法，包括以下步骤：⑴、配制浓度为5～11%的氢氧化钠溶液，加热至50～90℃；⑵、将需要清洗的硅料置于步骤⑴氢氧化钠溶液中2～3分钟，捞出硅料；⑶、依次用浓度为20～30%的盐酸溶液和纯水冲洗硅料。采用碱液来清洗硅料，减少废气的排放量；不产生氮氧化合物，减少对环境的污染；减少酸的用量，降低了生产成本；现在一吨硅料需要氢氧化钠10Kg，盐酸50kg。还降低了硅料的损耗，提高了操作人员的安全性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种硅料清洗方法，包括以下步骤：⑴、配制浓度为5～11%的氢氧化钠溶液，加热至50～90℃；⑵、将需要清洗的硅料置于步骤⑴氢氧化钠溶液中2～3分钟，捞出硅料；⑶、依次用浓度为20～30%的盐酸溶液和纯水冲洗硅料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘耀峰，潘振东，
申请(专利权)人：无锡荣能半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：