【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基于紫外线的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、对待清洗基板进行紫外线照射，并控制该紫外线的输出能量，以控制在照射时间内待清洗基板上的TFT元器件图形吸收到的光子能量小于TFT元器件图形击穿所需要的电子激发电量；步骤2、采用碱性溶液对该待清洗基板进行清洗；步骤3、采用水气二流体对该待清洗基板进行清洗；步骤4、采用去离子水对该待清洗基板进行清洗；步骤5、对该待清洗基板进行风刀干燥；步骤6、对该待清洗基板进行去水干燥，完成清洗。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：姚江波，李春良，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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