一种用于半导体器件的引线支架制造技术

技术编号:8449431 阅读:156 留言:0更新日期:2013-03-21 03:59
本发明专利技术公开了一种用于半导体器件的引线支架,其包括的组分及各组分重量比为:Fe:2.0~2.6wt%、Ti:0.05~0.1wt%、B:0.01~0.03wt%、Na:0~0.05wt%、Mo:0.01~1.5wt%、其余为Cu和杂质。该引线支架的抗拉强度高、硬度高、电导率高、延伸率高,能较好地满足电子工业领域对引线框架材料性能的诸多要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种引线支架,尤其涉及一种用于半导体器件的引线支架
技术介绍
目前,电子信息产业已经成为我国的一个重要支柱产业,半导体器件作为这个支柱产业的基石,其包括外部封装和内部集成电路;集成电路(IC)包括芯片、引线和引线支架、粘接材料、封装材料等。其中,引线支架的主要功能是为芯片提供机械支撑载体,同时也具有连接外部电路、传送电信号以及散热等功能。因此IC封装需要具备高强度、高导电、高导热性及良好的可焊性、耐蚀性、塑封性、抗氧化性等综合性能。我国引线支架材料的研究、试制、生产起步较晚,引线支架铜带生产规模小、品种规格少,目前只有少数企业可以进行批量生产很少型号的合金,而且存在质量精度差,质量不稳定、软化点低、内应力不均匀、宽度与厚度公差超差、外观要求不合格等问题。目前铜铁合金作为制造引线支架的主要材料,已占到市场总额的80%,合金牌号具有100多种。其中我国生产的C194合金是其中具有代表性的一种。但是,目前生产的C194引线支架铜铁合金的质量还不能满足要求,精度差,品种规格少,性能不稳定,铜带成品率不到50%,在板型状况、残余内应力、表面光洁度、边部毛刺等方面存有较大缺陷。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于半导体器件的引线支架,其特征在于,包括的组分及其重量比为:Fe:2.0~2.6wt%、Ti:0.05~0.1wt%、B:0.01~0.03wt%、Na:0~0.05wt%、Mo:0.01~1.5wt%,其余为Cu。

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体器件的引线支架,其特征在于,包括的组分及其重量比为Fe:2.O 2. 6wt%,Ti 0. 05 0. lwt%,B :0. 01 0. 03wt%,Na 0 0. 05wt%,Mo :0. 01 I.5wt%,其余为 Cu。2.如权利要求I所述的用于半导体器件的引线支架,其特征在于,该引线支架的抗拉强...

【专利技术属性】
技术研发人员:葛艳明袁志伟
申请(专利权)人:江苏金源锻造股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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